[发明专利]一种具有强发光性能的纳米硅的蒸汽腐蚀制备方法无效
| 申请号： | 201010185163.3 | 申请日： | 2010-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN101838852A | 公开（公告）日： | 2010-09-22 |
| 发明（设计）人： | 许海军;陈家华;陆宏波;李德尧;苏雷;廛宇飞 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C30B33/12 | 分类号： | C30B33/12;C23F1/12 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 发光 性能 纳米 蒸汽 腐蚀 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有强发光性能的纳米硅的蒸汽腐蚀制备方法，其特征是将硅片置于蒸汽体积填充度为30％-85％，压强0.1MPa-2.5MPa，温度70℃-250℃高压釜内形成的蒸汽环境中蒸汽反应5分钟-190分钟；所述蒸汽由浓度介于8.00-22.00mol/l的氢氟酸和0.01-0.50mol/l的硝酸铁溶液按照氢氟酸∶硝酸铁摩尔比＝25∶15比例混合组成的腐蚀液在高压釜内形成的蒸汽。
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