[发明专利]可稳定自发光的细菌质粒及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010188051.3 申请日: 2010-06-01
公开(公告)号: CN102268447A 公开(公告)日: 2011-12-07
发明(设计)人: 邱政洵;陈奇良;黄耀广 申请(专利权)人: 长庚医疗财团法人林口长庚纪念医院
主分类号: C12N15/70 分类号: C12N15/70;C12N15/74;C12N15/66;C12N15/65
代理公司: 北京天平专利商标代理有限公司 11239 代理人: 孙刚
地址: 中国台湾*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 稳定 发光 细菌 质粒 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种可稳定自发光的细菌质粒,其包含至少一luxABCDE自发发光基因、至少一可启动luxABCDE自发发光基因的启动子、至少一ColE1复制子、至少一抗性基因、至少一pir基因、至少一parG基因、至少一parF基因、至少一stbD基因与至少一stbE基因,以及包含至少一pilX1基因、至少一pilX2基因、至少一pilX4基因、至少一pilX5基因、至少一pilX6基因、至少一pilX7基因、至少一pilX8基因、至少一pilX9基因、至少一pilX10基因、至少一pilX11基因、至少一taxA基因、至少一taxB基因与至少一taxC基因。

2.如权利要求1所述的可稳定自发光的细菌质粒,其特征在于,该可启动luxABCDE自发发光基因的启动子为PlacZ启动子。

3.如权利要求1所述的可稳定自发光的细菌质粒,其特征在于,该抗性基因包含对氨比西林(ampicillin)的抗性基因。

4.如权利要求1所述的可稳定自发光的细菌质粒,其特征在于,该抗性基因包含对卡那霉素(kanamycin)的抗性基因。

5.如权利要求1所述的可稳定自发光的细菌质粒,其特征在于,该抗性基因包含对氨比西林(ampicillin)的抗性基因与对卡那霉素(kanamycin)的抗性基因。

6.如权利要求1所述的可稳定自发光的细菌质粒,其特征在于,该可稳定自发光的细菌质粒为如SEQ ID NO:1所述的核甘酸序列。

7.一种制备可稳定自发光的细菌质粒的方法,包含下列步骤:

(a)、将缺乏启动子的发光基因(luxABCDE)接入一含启动子的质粒中,使发光基因(luxABCDE)可利用启动子来启动转录。

(b)、将含至少一ColE1复制子及至少一抗性基因的革兰阴性细菌质粒接入质粒pSE34中。

(c)、将步骤(a)所构筑的质粒接入步骤(b)所构筑的质粒中以制得该革兰阴性细菌专用的稳定自发发光载体。

8.如权利要求7所述的制备可稳定自发光的细菌质粒的方法,其特征在于,步骤(a)所述的启动子可为PlacZ启动子。

9.如权利要求8所述的制备可稳定自发光的细菌质粒的方法,其特征在于,步骤(a)所述的含启动子的质粒可为质粒pGEM3-Zf+。

10.如权利要求9所述的制备可稳定自发光的细菌质粒的方法,其特征在于,步骤(a)所述的缺乏启动子的发光基因(luxABCDE)来自质粒pXen-5。

11.如权利要求7所述的制备可稳定自发光的细菌质粒的方法,其特征在于,步骤(b)所述的至少一ColE1复制子及至少一抗性基因的革兰阴性细菌质粒可为质粒pBlueScript II KS(+/-)。

12.一种革兰阴性细菌的质粒,于细菌细胞分裂时该质粒可稳定地分配于子细菌中,且使细菌与其他菌种细菌间可以利用接合生殖作用来散布该质粒,该质粒系包含至少一pir基因、至少一parG基因、至少一parF基因、至少一stbD基因与至少一stbE基因,以及包含至少一pilX1基因、至少一pilX2基因、至少一pilX4基因、至少一pilX5基因、至少一pilX6基因、至少一pilX7基因、至少一pilX8基因、至少一pilX9基因、至少一pilX10基因、至少一pilX11基因、至少一taxA基因、至少一taxB基因与至少一taxC基因。

13.如权利要求12所述的革兰阴性细菌的质粒,其特征在于,该质粒为如SEQ ID NO:2所述的核甘酸序列。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长庚医疗财团法人林口长庚纪念医院,未经长庚医疗财团法人林口长庚纪念医院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010188051.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top