[发明专利]一种高硒大豆的培植方法无效
| 申请号： | 201010189517.1 | 申请日： | 2010-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN102265742A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 蒋新东 | 申请（专利权）人： | 蒋新东 |
| 主分类号： | A01G1/00 | 分类号： | A01G1/00;A01C21/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 277000 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 大豆 培植 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种高硒大豆的培植方法，其特征是：采用窄行密植播种法，该方法包括按通常的大豆种植时间播种、间苗的培植程序进行，缩垄增行、窄行密植，改通常的60-70厘米宽行距为40-50厘米窄行密植。
2.根据权利要求1所述的一种高硒大豆的培植方法，其特征是：大豆施肥采用的肥料是同申请人研制生产的大豆专用硒肥。
3.根据权利要求2所述的一种高硒大豆的培植方法，其特征在于：大豆专用硒肥在栽前结合整地作基肥施用，使其土肥融合，使用量因地制宜。
4.根据权利要求2所述的一种大豆专用硒肥，其特征在于：在大豆幼前期及初花期施用少量大豆专用硒肥。施用量一般以每亩施大豆专用硒肥7.5-10Kg为宜。
5.根据权利要求2所述的一种大豆专用硒肥，其特征在于：追肥时先在两行大豆之间挖深度为15-20厘米的施肥沟，然后施肥覆土。
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