[发明专利]薄膜沉积装置

说明书

本申请要求于2009年5月22日提交到韩国知识产权局的第10-2009-0045199号、于2009年8月11日提交到韩国知识产权局的第10-2009-0074001号和于2010年2月17日提交到韩国知识产权局的第10-2010-0014272号韩国专利申请的权益，这些申请的公开通过引用被完全包含于此。

技术领域

本发明涉及一种薄膜沉积装置，更具体地讲，本发明涉及一种能够简单地用于大规模生产大尺寸显示装置并且提高了制造良率的薄膜沉积装置。

背景技术

与其它显示装置相比，有机发光显示装置视角大、对比度特性好并且响应速度快，因此有机发光显示装置作为下一代显示装置而备受瞩目。

有机发光显示装置通常具有堆叠结构，所述堆叠结构包括阳极、阴极和位于阳极和阴极之间的发射层。当分别从阳极和阴极注入的空穴和电子在发射层中复合并由此发光时，所述装置显示彩色图像。然而，这种结构难以实现高发光效率，因此，可选地在发射层和每个电极之间另外设置包括电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注入层等的中间层。

此外，实际上很难在诸如发射层和中间层的有机薄膜中形成精细的图案，并且红色发光效率、绿色发光效率和蓝色发光效率根据有机薄膜而改变。为此，通过利用传统的薄膜沉积装置在诸如5G或更大尺寸的母玻璃的大基底上形成有机薄膜图案是不容易的，因此难以制造驱动电压、电流密度、亮度、色纯度、发光效率、寿命特性令人满意的大型有机发光显示装置。因此，在这方面需要改善。

有机发光显示装置包括中间层，所述中间层包括设置在彼此相对布置的第一电极和第二电极之间的发射层。所述电极和所述中间层可以经过各种方法形成，所述方法之一为沉积方法。当利用沉积方法来制造有机发光显示装置时，为了形成具有期望图案的薄膜，具有与待形成的薄膜的图案相同的图案的精细金属掩模(FMM)被设置为紧密地接触基底，并且在FMM上方沉积薄膜材料。

发明内容

本发明提供了一种薄膜沉积装置，所述薄膜沉积装置可以容易地制造、可以简单地应用于大规模制造大尺寸的显示装置、提高了制造良率和沉积效率、并且具有允许容易地调节喷嘴和基底之间的间隔的结构。

根据本发明的一方面，提供了一种用于在基底上形成薄膜的薄膜沉积装置，所述薄膜沉积装置包括：沉积源；第一喷嘴，设置在沉积源的一侧并且包括在第一方向上布置的多个第一缝隙；第二喷嘴，与第一喷嘴相对设置并且包括在第一方向上布置的多个第二缝隙；障碍墙组件，包括在第一方向上布置的多个障碍墙，从而划分第一喷嘴和第二喷嘴之间的空间；间隔控制构件和对准控制构件中的至少一个，间隔控制构件调节第二喷嘴与基底之间的间隔，对准控制构件调节第二喷嘴和基底之间的对准。

间隔控制构件可以将第二喷嘴和基底之间的间隔调节为恒定。

间隔控制构件可以包括：传感器，感测第二喷嘴相对于基底的位置；致动器，提供用于使第二喷嘴相对于基底移动的驱动力。

基底可以包括定位标记，传感器可以基于定位标记感测第二喷嘴相对于基底的位置。关于这点，可以在基底上布置不与定位标记叠置的开口掩模。

所述薄膜沉积装置还可以包括：底部框架；托架，布置在底部框架上并且容纳其中的第二喷嘴。

致动器可以通过使第二喷嘴相对于托架移动来调节第二喷嘴和基底之间的间隔。

所述致动器可以包括：第一致动器，设置在第二喷嘴的一侧和托架之间，以使第二喷嘴相对于托架移动；第二致动器，设置在第二喷嘴的与设置有第一致动器的一侧相对的一侧和托架之间，以使第二喷嘴相对于托架移动；第三致动器，相对于与第一方向平行的轴旋转第二喷嘴。

致动器可以包括压电电机。

致动器和传感器可以通过实时反馈控制来调节第二喷嘴和基底之间的间隔。

间隔控制构件可以包括设置在第二喷嘴的相对端部并且接触基底的辊子或球状物。

对准控制构件可以将第二喷嘴相对于基底的位置调节为恒定。

对准控制构件可以包括：传感器，感测第二喷嘴相对于基底的位置；致动器，提供使第二喷嘴相对于基底移动的驱动力。

基底可以包括定位标记，传感器可以基于定位标记感测第二喷嘴相对于基底的位置。关于这一点，可以在基底上布置不与定位标记叠置的开口掩模。

所述薄膜沉积装置还可以包括：底部框架；托架，布置在底部框架上并且容纳其中的第二喷嘴。

致动器可以通过使第二喷嘴相对于托架移动来调节第二喷嘴和基底之间的对准。