[发明专利]镀膜伞架

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜伞架，尤其涉及一种由平面载盘构成的可控制镀膜元件膜层厚度的镀膜伞架。

背景技术

光学薄膜一般采用蒸镀法(Evaporation Deposition)、离子助镀法(Ion Assisteddeposition，IAD)或离子溅镀法(Ion Beam Sputtering Deposition，IBSD)进行镀制。在膜层镀制过程中，通常使用镀膜伞架来承载镀膜元件，镀膜元件放置于镀膜伞架上，待镀表面朝向设置于镀膜伞架下方的靶材，通过蒸发或离子轰击等方式将靶材材料冲至镀膜伞架，并附着于待镀表面形成镀膜膜层。

请参阅图7，为传统镀膜伞架10的示意图，传统镀膜伞架10为弧面结构，其上开设有多个承载孔12，传统镀膜伞架10可以绕其中心旋转。镀膜时，镀膜元件(图未示)容置于承载孔12，待镀表面朝向设置于镀膜伞架下方的靶材(图未示)。但是，这种传统镀膜伞架一般体积及重量都较大，使用过程中需占据较大的空间，不易于收放保存。而且，传统镀膜伞架具有的弧度又使得镀膜伞架的中心距离靶材较远，易造成放置于镀膜伞架中心位置的镀膜元件镀膜膜层厚度不够，影响同一批次镀膜元件镀膜膜层的均匀性；再者，传统镀膜伞架上承载的镀膜元件距离靶材的距离一般都是较为固定的，不易控制镀膜元件镀膜膜层的厚度。此外，对于需要在不同表面镀膜的镀膜元件来说，采用传统的镀膜伞架通常需要人工翻转镀膜元件，由此，易使镀膜元件受到污染，影响镀膜制品的良率。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种易于实现的、可有效解决现有技术中存在的问题的镀膜伞架。

一种镀膜伞架包括一个中心支撑杆，一设置于中心支撑杆上的中心载盘，若干个围绕并固定于所述中心支撑杆的外围支撑杆，及若干个分别设置于所述若干个外围支撑杆上的外围载盘。所述中心支撑杆可以绕其长度方向的中心轴旋转。所述中心载盘与所述若干个外围载盘均至少由一个第一载盘及一个第二载盘组成，所述中心载盘的第一载盘与第二载盘通过一个中心连接轴相连接，且所述中心载盘的第一载盘与第二载盘可以绕所述中心连接轴相对于所述中心支撑杆旋转而分别实现翻面。所述若干个外围载盘的第一载盘与第二载盘通过一个外围连接轴相连接，且所述外围载盘的第一载盘与第二载盘可以绕所述外围连接轴相对于对应的外围支撑杆旋转而分别实现翻面。所述外围支撑杆进一步沿其长度方向开设有一个贯穿所述外围支撑杆外侧面的贯通槽，所述外围连接轴位于与其对应的所述贯通槽内，对应的所述外围载盘的第一载盘与第二载盘分别位于所述贯通槽的两侧，所述外围连接轴可以沿所述贯通槽滑动，使所述外围载盘沿与其对应的外围支撑杆上升或下降。

相对于现有技术，本发明提供的镀膜伞架具有如下优点：其一，镀膜伞架为组合结构，区别于非传统伞状结构，便于收放保存，占据的空间较小，可以节省放置空间。其二，本发明的镀膜伞架中的载盘除了可以整体旋转以外，还可以旋转变换镀膜角度，可以有效地改善镀膜膜层的均匀性、致密性及应力分布。其三，镀膜伞架中可升降的外围载盘，使得设置于其上的镀膜元件在镀膜加工时，可调节与靶材的距离，从而可以控制镀膜元件镀膜膜层的厚度。其四，本发明的镀膜伞架整体结构简单，便于安装与拆卸，无需设计具有弧度的复杂曲面，有利于降低设计成本。其五，对于需要在不同表面镀膜的镀膜元件来说，采用本发明的镀膜伞架便于实现自动翻转镀膜元件，可避免镀膜元件受到污染，提高镀膜制品的良率。

附图说明

图1是本发明一实施例提供的镀膜伞架的示意图，所述镀膜伞架包括中心载盘、外围载盘及升降装置。

图2是图1所示的镀膜伞架的局部放大示意图。

图3是图1所示的升降装置与外围载盘的示意图。

图4是图1所示的镀膜伞架中的外围载盘调整至某一角度与某一高度时的状态示意图。

图5是图1所示的镀膜伞架中的外围载盘调整至另一角度与另一高度时的状态示意图。

图6是图1所示的镀膜伞架中的中心载盘及外围载盘翻面后的示意图。

图7是传统镀膜伞架的示意图。

主要元件符号说明

传统镀膜伞架          10

承载孔                12、53

支撑架                30

中心支撑杆            31

外围支撑杆            32

横杆                  34

驱动器                36