[发明专利]启动加注处理方法和启动加注处理装置有效
申请号: | 201010194786.7 | 申请日: | 2010-06-04 |
公开(公告)号: | CN101905209A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 若元幸浩;田代佳;上田荣一 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C13/02;B05C11/10;B05C9/12;B05D1/26;G03F7/16 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 启动 加注 处理 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种启动加注处理方法和启动加注处理装置,用于在非旋转法的涂敷处理用的狭缝喷嘴的喷出口附近形成处理液的液膜,以作为涂敷处理的预先准备。
背景技术
在LCD等平板显示器(FPD)的制造工艺中的光蚀刻工序中,多使用非旋转法,该非旋转法是使具有狭缝状喷出口的长条形的狭缝喷嘴进行扫描,从而在被处理基板(例如玻璃基板)上涂敷抗蚀剂液。
在这样的非旋转法中,希望在防止抗蚀剂干燥膜的膜厚的不均匀性和涂敷不均的基础上,使在涂敷扫描中喷出到基板上的抗蚀剂液在扫描方向上绕到狭缝喷嘴的背面侧而形成的弯液面(meniscus)在喷嘴长度方向上对齐成水平一条直线,因此,在即将涂敷扫描开始之前,在狭缝喷嘴的喷出口和基板之间的涂敷间隙中塞满适量的抗蚀剂液而使该喷出口和基板之间不存在间隙是必要条件。为了满足该必要条件,作为涂敷扫描的预先准备,进行从狭缝喷嘴的喷出口到背面下端部形成抗蚀剂液的液膜的启动加注处理。
有代表性的启动加注处理法为,在涂敷处理部附近水平地设置具有与狭缝喷嘴同等或同等以上长度的圆筒状的启动加注辊,使狭缝喷嘴隔着微小的间隙接近到与启动加注辊的顶部相对的位置而喷出抗蚀剂液,之后立即使启动加注辊沿规定方向旋转。于是,喷出到启动加注辊的顶部附近的抗蚀剂液绕到狭缝喷嘴的背面下部而卷绕在启动加注辊的外周面上,抗蚀剂液的液膜以分开成狭缝喷嘴侧和启动加注辊侧的形式被分离。在狭缝喷嘴上从喷嘴喷出口到背面下端部残留有抗蚀剂液的液膜。
以往一般的启动加注处理装置不仅具有驱动启动加注辊旋转的旋转机构,还具有用于清洁启动加注辊的刮削器、清洗喷嘴和干燥喷嘴等,当1次启动加注处理结束时,作为其后处理,利用旋转机构使启动加注辊连续旋转,用刮削器从启动加注辊的外周面刮掉抗蚀剂液,利用清洗喷嘴和干燥喷嘴分别对启动加注辊的外周面喷射清洗液和干燥气体。
可是,在1次启动加注处理中,启动加注辊上用于接受从狭缝喷嘴喷出的抗蚀剂液而卷绕使用的区域根据狭缝喷嘴、启动加注辊的尺寸不同而不同,然而无需遍布启动加注辊的整周(360°),而通常是半周(180°)以下,也可以是1/4周(90°)以下或1/5周(72°)以下。而且,以往一般的启动加注处理装置每次进行启动加注处理时,作为后处理,像上述那样使启动加注辊连续旋转,对启动加注辊的外周面整体(整周)喷射清洗液,因此,存在大量使用清洗液(通常为稀释剂)的这种问题。
本申请人为了解决该问题,在专利文献1中公开有如下的启动加注处理法,即,为了进行1次启动加注处理,使狭缝喷嘴的喷出口和启动加注辊的上端隔开规定的间隙地相对,从狭缝喷嘴喷出恒定量的处理液或涂敷液(例如抗蚀剂液),并且使启动加注辊旋转规定的旋转角度,在该启动加注处理中使用启动加注辊的半周以下的部分表面区域,在连续的规定次数的启动加注处理结束之后,遍及启动加注辊的外周面整周一并进行清洗。
该启动加注处理法为,将启动加注辊的外周面沿其旋转方向分开成多个区域,在连续的规定次数的启动加注处理中依次分配地使用上述的分开区域(部分的表面区域),之后遍及启动加注辊的外周面整周一并进行清洗。该一并清洗处理一边利用旋转机构使启动加注辊连续旋转一边使清洗机构和干燥部动作,遍及启动加注辊的外周面整周一并进行清洗,在各启动加注处理时,不需要用于刮掉卷绕在启动加注辊表面的涂敷液的液膜的刮削器,能节省在启动加注处理后的清洗处理中所消耗的清洗液,并且也能在清洗处理时防止微粒的产生。
专利文献1:日本特开2007-237046
发明内容
本发明是本申请人在上述专利文献1中所公开的启动加注处理法的改进版,从独自的观点出发,考虑到启动加注处理的成品率以及可靠性并且实现进一步节省在启动加注处理中所使用的清洗液。
即,本发明提供一种能够保障启动加注处理的可靠性并且能够进一步削减清洗液的使用量的启动加注处理方法和启动加注处理装置。
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