[发明专利]彩色滤光片低温镀ITO透明导电膜的生产方法

说明书

技术领域：

本发明涉及一种彩色滤光片低温镀ITO透明导电膜的生产方法，它属于滤光片的镀膜技术领域。

背景技术：

彩色滤光片，广泛应用于手机、数码相机、数码摄像机、PDA、MP4、车载显示屏、工业控制面板等。随着此类消费电子产品的市场需求不断增长，彩色滤光片拥有广阔的市场前景，彩色滤光片的发展拥有良好的市场空间。彩色滤光片生产技术，涵盖光刻技术、清洗技术、膜厚控制技术、段差控制技术、线宽控制技术、总间距控制技术、图形对位精度控制、表面质量控制技术等，而彩色滤光片低温镀ITO即氧化铟锡导电膜是彩色滤光片生产的关键技术，目前其生产工艺技术存在如下的问题：容易产生颜色异常、针孔超标、打弧、膜层均匀性差的缺陷，导致彩色滤光片显示颜色异常、短路、开路等等不良，合格率偏低，严重影响彩色滤光片产品的质量。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种可以保证生产出的彩色滤光片颜色正常，产品合格率高的彩色滤光片低温镀ITO透明导电膜的生产方法。

本发明的目的是这样实现的：

一种彩色滤光片低温镀ITO透明导电膜的生产方法，它包括如下的工艺步骤：

A：先按照常规技术进行超声波清洗基片，再进行平板清洗、热烘干燥；

B：将上述处理的基片上架装片进行镀膜，先镀SiO₂，镀膜采用力合薄膜科技立式全自动连续磁控溅射镀膜机，基片加热温度为210℃～250℃，镀膜室传动速度频率为7.0Hz～13.0Hz，在4号室使用2个多晶硅靶进行镀SiO₂膜，其工艺条件是：O₂流量为35Sccm、Ar流量200～220Sccm、真空度3.0×10^-1Pa～4.5×10^-1Pa之间，总气压为0.40～0.45Pa；

C：再镀ITO膜：使用6个ITO靶镀ITO膜，工艺条件是：镀膜室Ar流量为200～220Sccm、镀膜室真空度4.0*10^-1Pa～4.5*10^-1Pa之间。

所述的彩色滤光片低温镀ITO透明导电膜的生产方法，它包括如下的具体工艺步骤：

A：先按照常规技术进行超声波清洗基片，再进行平板清洗、热烘干燥；

B：将上述处理的基片上架装片进行镀膜，先镀SiO₂，镀膜采用力合薄膜科技立式全自动连续磁控溅射镀膜机，基片加热温度为250℃，镀膜室传动速度频率为11.0Hz，在4号室使用2个多晶硅靶进行镀SiO₂膜，其工艺条件是：O₂流量为35Sccm、Ar流量200～220Sccm、真空度3.0×10^-1Pa～4.5×10^-1Pa之间，总气压为0.40～0.45Pa；

C：再镀ITO膜：使用6个ITO靶镀ITO膜，工艺条件是：镀膜室Ar流量为200～220Sccm、镀膜室真空度4.0*10^-1Pa～4.5*10^-1Pa之间。

所述的彩色滤光片低温镀ITO透明导电膜的生产方法，其特征在于它包括如下的具体工艺步骤：

A：先按照常规技术进行超声波清洗基片，再进行平板清洗、热烘干燥；

B：将上述处理的基片上架装片进行镀膜，先镀SiO₂，镀膜采用力合薄膜科技立式全自动连续磁控溅射镀膜机，基片加热温度为230℃，镀膜室传动速度频率为9.0Hz，在4号室使用2个多晶硅靶进行镀SiO₂膜，其工艺条件是：O₂流量为35Sccm、Ar流量200～220Sccm、真空度3.0×10^-1Pa～4.5×10^-1Pa之间，总气压为0.40～0.45Pa；

C：再镀ITO膜：使用6个ITO靶镀ITO膜，工艺条件是：镀膜室Ar流量为200～220Sccm、镀膜室真空度4.0*10^-1Pa～4.5*10^-1Pa之间。

所述的彩色滤光片低温镀ITO透明导电膜的生产方法，它包括如下的具体工艺步骤：

A：先按照常规技术进行超声波清洗基片，再进行平板清洗、热烘干燥；