[发明专利]一种微反射镜结构及其制造方法

权利要求书

1.一种微反射镜结构，其特征在于：包括玻璃衬底和硅片，所述硅片具有平行的上平面层和下平面层，一镜面支撑柱设置在上下平面层中心并与其一体连接；所述上平面层形成反射镜面，所述下平面层形成硅驱动极板、键合锚点以及扭梁，所述扭梁的一端与硅驱动极板连接，另一端与键合锚点连接；所述硅片与玻璃衬底通过所述键合锚点键合。

2.根据权利要求1所述的微反射镜结构，其特征在于：还包括一通孔，其贯穿所述镜面支撑柱。

3.根据权利要求1所述的微反射镜结构，其特征在于：所述硅驱动极板沿其所在的平面层的横向轴对称分布，并在中间部分连接；所述扭梁为细长条形，沿着该平面层的纵向中心轴线对称设置在两端，扭梁的一端与硅驱动极板中间连接部分相连，其余边与驱动极板分离；键合锚点与硅驱动极板相分离，并分别与扭梁的另一端连接。

4.根据权利要求1所述的微反射镜结构，其特征在于：所述玻璃衬底与硅片键合的表面上具有一槽体，使得玻璃衬底与硅片之间形成一定的间隙，作为所述扭梁的扭转空间。

5.根据权利要求1所述的微反射镜结构，其特征在于：玻璃衬底上还具有静电驱动电极，其与硅片上的硅驱动极板的位置正对。

6.根据权利要求1所述的微反射镜结构，其特征在于：所述扭梁厚度为10um。

7.一种微反射镜制造方法，其特征在于：包括如下步骤：

步骤1：在硅片上形成通孔；

步骤2：对硅片进行浓硼浅扩散，在硅片的各表面以及通孔内壁表面上形成一定厚度的异性湿法腐蚀自停止层；

步骤3：在所述硅片的异性湿法腐蚀自停止层上通过干法刻蚀形成反射镜面、硅驱动极板、键合锚点和扭梁，以及湿法腐蚀的开口；

步骤4：通过各向异性湿法腐蚀工艺将异性湿法腐蚀自停止层以外的硅去除掉，形成反射镜面支撑柱以及使反射镜面、键合锚点、扭梁和硅驱动电极的厚度将得到减薄。

8.根据权利要求7所述的微反射镜制造方法，其特征在于：所述步骤3包括：首先在硅片的一面上涂覆光刻胶，通过曝光、显影形成键合锚点、硅驱动电极和扭梁的图形；然后对硅片该面进行干法刻蚀，将没有光刻胶保护的硅片表面进行垂直腐蚀，从而形成键合锚点、硅驱动电极和扭梁，再去除光刻胶。

9.根据权利要求8所述的微反射镜制造方法，其特征在于：将所述硅片与一玻璃衬底进行静电圆片键合，使得硅片的键合锚点与玻璃衬底键合。

10.根据权利要求9所述的微反射镜制造方法，其特征在于：进一步包括步骤：首先在硅片的另一面上涂覆光刻胶，通过曝光、显影得到反射镜面图形；然后对硅片正面进行干法刻蚀，将没有光刻胶保护的硅片表面进行垂直腐蚀，形成反射镜面和湿法腐蚀的开口，再去除光刻胶。

11.根据权利要求7-10中任一权利要求所述的微反射镜制造方法，其特征在于：所述步骤4包括：将硅片放入氢氧化钾(KOH)或四甲基氢氧化铵(TMAH)腐蚀液中腐蚀。

12.根据权利要求7所述的微反射镜制造方法，其特征在于：所述异性湿法腐蚀自停止层的厚度为10um。

13.根据权利要求9所述的微反射镜制造方法，其特征在于：所述玻璃衬底与硅片进行静电圆片键合之前，先在玻璃衬底的键合表面涂覆光刻胶，通过曝光、显影得到一槽体的图形；然后将玻璃衬底放入玻璃腐蚀液中，在玻璃衬底上腐蚀出槽体，再去除光刻胶。

14.根据权利要求13所述的微反射镜制造方法，其特征在于：还包括步骤：在玻璃衬底键合表面上涂覆光刻胶，通过曝光、显影得到静电驱动电极的图形；然后在玻璃衬底的表面上生长一层金属，并采用剥离工艺将静电驱动电极图形之外的金属去掉，形成静电驱动电极的金属布线，再去除光刻胶。