[发明专利]放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及适合作为用于形成液晶显示元件(LCD)的保护膜和层间绝缘膜的材料的放射线敏感性组合物，由该组合物形成的保护膜和层间绝缘膜，以及该保护膜和层间绝缘膜的形成方法。

背景技术

液晶显示元件等在其制造工序中，通过溶剂、酸或碱溶液等进行浸渍处理。另外，这种液晶显示元件在通过溅射法形成布线电极层时，元件表面的局部暴露在高温中。因此，为了防止这种通过溶剂等进行浸渍处理或高温处理，导致液晶显示元件恶化或损伤，实施在元件的表面设置对这些处理具有耐受性的保护膜。

这种保护膜要求有对应当形成该保护膜的基板或下层、以及在保护膜上形成的层的密合性高；膜自身平滑且强韧；具有透明性；即使在高温条件下也不会变色，可以保持透明性；表面硬度足够；耐磨损性优异等性能。作为用于形成满足这些各种性质的保护膜的材料，已知的有例如包含具有缩水甘油基的聚合物的负型放射线敏感性组合物(参照日本特开平5-78453号公报)。一般来说，作为保护膜形成用的放射线敏感性组合物，与正型放射线敏感性组合物相比，由于在成本上更有利，所以广泛使用的是具有负型放射线敏感性的放射线敏感性组合物。

另外，作为形成保护膜使用的放射线敏感性组合物的成分，主要使用丙烯酸类树脂。相对于此，还尝试使用耐热性和透明性比丙烯酸类树脂更优异的聚硅氧烷类材料作为放射线敏感性组合物的成分(参照日本特开2000-1648号公报、日本特开2006-178436号公报)。然而，聚硅氧烷类材料和ITO(铟锡氧化物)透明导电膜的密合性不足，所以容易在固化膜上产生皲裂(裂口)，所以存在不适合作为保护膜的问题。此外，在作为液晶显示元件中的布线的钼布线上，密合性不足时，以钼布线为起点，保护膜有可能容易产生皲裂或剥落。因此，希望开发出耐热性和透明性优异，同时可以改善和ITO透明导电膜以及钼布线的密合性的聚硅氧烷类放射线敏感性组合物。

另一方面，层间绝缘膜设置在液晶显示元件等中，一般用于使层状配置的布线之间绝缘。该液晶显示元件的层间绝缘膜必须形成布线用接触孔的图案。作为液晶显示元件的层间绝缘膜的形成用材料虽然开发出了成本上有利的负型放射线敏感性组合物(参照日本特开2000-162769号公报)，但是这种负型组合物难以形成具有可以实际使用水平的孔径的接触孔。因此，目前为止，从形成接触孔的优越性的观点出发，为了形成液晶显示元件的层间绝缘膜，广泛使用正型放射线敏感性固化性组合物(参照日本特开2001-354822号公报)。

在制造这样的液晶显示元件等时，根据其目的和工序，可以使用多种放射线敏感性组合物。最近，从削减成本的观点出发，尝试将放射线敏感性组合物的种类统一化，希望可以用一种放射线敏感性组合物形成耐热性、透明性、平坦性等要求性质重复的保护膜和层间绝缘膜。因此，要求开发出一种放射线敏感性组合物，该组合物具备作为保护膜的形成材料，具有一般常用的负型放射线敏感性，满足上述要求的所有性质，同时具有作为层间绝缘膜的形成材料所必需的接触孔形成能力。

具体地，强烈希望开发出一种聚硅氧烷类负型放射线敏感性组合物，该组合物可以简单地形成平坦性、透明性、耐热性、密合性、耐裂性、表面硬度和耐磨损性优异的保护膜和层间绝缘膜，而且显现出可以形成能够实际使用的接触孔的分辨率，而且具有高的保存稳定性。

【现有技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开平5-78453号公报

【专利文献2】日本特开2000-001648号公报

【专利文献3】日本特开2006-178436号公报

【专利文献4】日本特开2000-162769号公报

【专利文献5】日本特开2001-354822号公报

发明内容

本发明是基于以上问题提出的，其目的在于提供一种聚硅氧烷类负型放射线敏感性组合物，该组合物适合用于形成平坦性、透明性、耐热性(耐热透明性)、表面硬度和耐磨损性优异，同时对ITO透明导电膜的密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜，而且具有足够的分辨率和保存稳定性；由该组合物形成的保护膜和层间绝缘膜，以及该保护膜和层间绝缘膜的形成方法。

为了解决上述问题的本发明是一种放射线敏感性组合物，其包括：

[A]硅氧烷聚合物，

[B]选自由下式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种硅烷化合物，以及

[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。