[发明专利]一种去污剂配方及工艺

权利要求书

1.一种去污剂配方，其包括二氧化硅、烃类溶剂、氯类溶剂抛射剂，其特征在于：各用用料的重量百分比如下：二氧化硅重量百分比为3％～15％，烃类溶剂重量百分比为15％～50％，氯类溶剂重量百分比为10％～45％，抛射剂重量百分比为20％～45％。

2.根据权利要求1所述的一种去污剂配方，其特征在于：所述的配方还添加有酮类溶剂、醇类溶剂、香精，其含量占总配方料的重量百分比分别为：酮类溶剂重量百分比为3％～10％，醇类溶剂重量百分比为3％～10％，香精重量百分比为0.5‰～2‰。

3.根据权利要求1所述的一种去污剂配方，其特征在于：所述的二氧化硅为气相法二氧化硅、沉淀法二氧化硅中的任意一种；烃类溶剂为正戊烷、环戊烷、正己烷、环己烷，6#白电油中的任意一种或几种配合使用；氯类溶剂为三氯乙烯、四氯乙烯、1，1，1-三氯乙烷中的任意一种；抛射剂为液化石油气(LPG)、二甲醚(DME)中的任意一种；酮类溶剂为丙酮、丁酮中的任意一种；醇类溶剂为无水乙醇、异丙醇中的任意一种。

4.利用权利要求1所述的一种去污剂配方制作去污剂方法步骤是：

(1)按配方计量将三氯乙烯或四氯乙烯加入配料锅内，低速搅拌；

(2)加入烃类溶剂调节至中速搅拌；

(3)缓慢加入二氧化硅，持续搅拌至二氧化硅粉团消失，且配料锅壁基本无二氧化硅粉积聚；

(4)经过过滤，然后进行装罐、封口，再进行充气。