[发明专利]涂覆、显影装置和基板的背面清洁方法

权利要求书

1.一种涂覆、显影装置，其特征在于，具备：

抗蚀剂处理部，用于在圆形的基板的表面涂覆抗蚀剂液而形成抗蚀剂膜；

周边膜除去部，除去所述基板的表面的周边部的抗蚀剂膜；

疏水化处理部，向涂覆抗蚀剂液之前或通过所述除去部除去抗蚀剂膜之后的基板供给疏水化用的流体，至少对所述基板的表面的周边部进行疏水化处理；

背面清洁部，对疏水化处理和抗蚀剂膜的形成完成后的基板的背面进行清洁；和

显影处理部，对进行背面的清洁、并进一步进行图案形成用的曝光后的基板进行显影处理，其中，

所述背面清洁部，具备：

基板保持部，将基板保持水平并使其绕着铅直轴旋转；

清洁刷，一边自转，一边对通过所述基板保持部旋转的基板的背面进行清洁；

清洁液供给部，在利用该清洁刷清洁时，向所述基板的背面供给清洁液；和

控制部，输出控制信号，使得在对所述基板的背面侧的至少周边部进行清洁时，该基板的转速在80rpm以下。

2.如权利要求1所述的涂覆、显影装置，其特征在于：

具备保护膜形成部，该保护膜形成部用于在利用所述疏水化处理部进行了疏水化处理并且利用所述周边除去部除去了抗蚀剂膜的周边部后的基板的表面，形成用于在液浸曝光时保护抗蚀剂膜的拨水性的保护膜。

3.如权利要求1所述的涂覆、显影装置，其特征在于：

所述清洁刷，配置在比来自所述清洁液供给部的清洁液的供给位置更靠近基板的旋转方向的下游侧的位置。

4.一种涂覆、显影方法，其特征在于，包括：

在圆形的基板的表面涂覆抗蚀剂液而形成抗蚀剂膜的工序；

除去所述基板的表面的周边部的抗蚀剂膜的工序；

向涂覆抗蚀剂液之前或者除去基板的表面的周边部的抗蚀剂膜之后的基板供给疏水化用的流体，至少对所述基板的表面的周边部进行疏水化处理的工序；

对疏水化处理和抗蚀剂膜的形成完成后的基板的背面进行清洁的背面清洁工序；和

对进行背面的清洁、并进一步进行图案形成用的曝光后的基板进行显影处理的工序，其中，

所述背面清洁工序，将基板保持水平并使其绕着铅直轴旋转，并且向基板的背面供给清洁液，同时利用自转的清洁刷对基板的背面进行清洁，在对所述基板的背面侧的至少周边部进行清洁时，将该基板的转速设定为80rpm以下。

5.如权利要求4所述的涂覆、显影方法，其特征在于，包括：

在进行了疏水化处理并除去了抗蚀剂膜的周边部后的基板的表面，形成用于在液浸曝光时保护抗蚀剂膜的拨水性保护膜的工序。

6.如权利要求4所述的涂覆、显影方法，其特征在于：

利用所述清洁刷进行清洁的位置，比清洁液的供给位置更靠近基板的旋转方向下游侧。

7.一种基板的背面清洁方法，其特征在于：

将背面进行了疏水化处理后的基板保持水平，使其绕着铅直轴旋转，并且向基板的背面供给清洁液，同时利用自转的清洁刷对基板的背面进行清洁，对所述基板的经过疏水化处理的部位进行清洁时，将该基板的转速设定在80rpm以下。