[发明专利]垂直磁记录介质及其制造和相应的磁存储装置有效

专利信息
申请号: 201010202485.4 申请日: 2010-06-09
公开(公告)号: CN101923864A 公开(公告)日: 2010-12-22
发明(设计)人: 殿冈俊;荒井礼子;中川宏之;棚桥究 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/667 分类号: G11B5/667;G11B5/738
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 张焕生;谢丽娜
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 垂直 记录 介质 及其 制造 相应 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种垂直磁记录介质,包括:

至少一个软磁性底层,所述至少一个软磁性底层在衬底上方;

晶种层,所述晶种层在所述至少一个软磁性底层上方;

中间层,所述中间层在所述晶种层上方;

磁记录层,所述磁记录层在所述中间层上方;以及

保护层,所述保护层在所述磁记录层上方,

其中所述晶种层包括在第一晶种层上方的第二晶种层,

其中所述第一晶种层包括具有面心立方(FCC)结构的非磁性合金,以及

其中所述第二晶种层包括具有FCC结构的软磁性合金。

2.如权利要求1所述的垂直磁记录介质,其中,所述第一晶种层包括镍-钨(NiW)合金。

3.如权利要求2所述的垂直磁记录介质,其中,所述NiW合金中钨(W)的含量小于约20个原子百分比(at.%)。

4.如权利要求2所述的垂直磁记录介质,其中,所述第二晶种层包括具有主要成分为镍-铁(NiFe)或钴-铁(CoFe)的合金。

5.如权利要求4所述的垂直磁记录介质,其中,所述第二晶种层包括钨(W)、钒(V)和钽(Ta)中的至少一种。

6.如权利要求1所述的垂直磁记录介质,其中,所述第一晶种层包括镍-钨-铬(NiWCr)合金。

7.如权利要求1所述的垂直磁记录介质,其中,所述第一晶种层的膜厚度在约2nm至约8nm的范围内,以及其中所述第二晶种层的膜厚度在约2nm至约7nm的范围内。

8.如权利要求1所述的垂直磁记录介质,其中,所述中间层包括钌(Ru)或其合金。

9.一种磁盘驱动系统,包括:

权利要求1所述的垂直磁记录介质;

至少一个磁头,所述至少一个磁头用于写入所述磁介质;

滑橇,所述滑橇用于支撑所述至少一个磁头;以及

控制元件,所述控制元件耦合到所述至少一个磁头,用于控制所述至少一个磁头的操作。

10.一种垂直磁记录介质,包括:

至少一个软磁性底层,所述至少一个软磁性底层在衬底上方;

晶种层,所述晶种层在所述至少一个软磁性底层上方;

中间层,所述中间层在所述晶种层上方;

磁记录层,所述磁记录层在所述中间层上方;以及

保护层,所述保护层在所述磁记录层上方,

其中所述晶种层为至少两个周期的层积膜单元的层积结构,所述层积膜单元包括第一晶种层和第二晶种层,

其中所述第一晶种层包括具有面心立方(FCC)结构的非磁性合金,以及

其中所述第二晶种层包括具有FCC结构的软磁性合金。

11.如权利要求10所述的垂直磁记录介质,其中,所述第一晶种层包括镍-钨(NiW)合金。

12.如权利要求11所述的垂直磁记录介质,其中,所述NiW合金包括小于约20个原子百分比(at.%)的NiW。

13.如权利要求11所述的垂直磁记录介质,其中,所述第二晶种层为具有主要成分为NiFe或CoFe的合金。

14.如权利要求13所述的垂直磁记录介质,其中,所述第二晶种层还包括W、V和Ta中的至少一种。

15.如权利要求10所述的垂直磁记录介质,其中,所述第一晶种层包括镍-钨-铬(NiWCr)合金。

16.如权利要求10所述的垂直磁记录介质,其中,所述第一晶种层的膜厚度在约1nm至约4nm的范围内,以及其中所述第二晶种层的膜厚度在约1nm至约4nm的范围内。

17.如权利要求10所述的垂直磁记录介质,其中,所述中间层包括钌(Ru)或其合金。

18.一种磁盘驱动系统,包括:

权利要求10所述的垂直磁记录介质;

至少一个磁头,所述至少一个磁头用于写入所述磁介质;

滑橇,所述滑橇用于支撑所述至少一个磁头;以及

控制元件,所述控制元件耦合到所述至少一个磁头,用于控制所述至少一个磁头的操作。

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