[发明专利]制造大功率半导体模块的方法和大功率半导体模块有效
申请号: | 201010202629.6 | 申请日: | 2010-06-09 |
公开(公告)号: | CN101924044A | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
发明(设计)人: | 彼得·贝克达尔;马库斯·克内贝尔;汤姆斯·施托克迈尔 | 申请(专利权)人: | 赛米控电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/58 | 分类号: | H01L21/58;H01L21/60;H01L23/055;H01L23/32 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 车文;樊卫民 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 大功率 半导体 模块 方法 | ||
1.用于制造大功率半导体模块的方法,所述大功率半导体模块具有衬底(10)、连接装置(40)和大量负载连接件(50),其中,至少一个大功率半导体构件(20)设置在所述衬底(10)的导体带(14)上并适于电路地借助所述连接装置(40)与至少一个负载连接件(50)连接,并且其中,所述连接装置(40)具有能与外部的印制电路板(60)连接的辅助接触连接面(460),其特征在于如下主要制造步骤:
·提供衬底(10)和连接装置(40),所述连接装置(40)至少由具有结构化的第一导电金属箔(42)、电绝缘箔(44)和结构化的第二导电金属箔(46)的层序列形成,其中,各结构化部形成由各金属箔构成的第一导体带和第二导体带;
·将所述第一导体带(42)的各第一接触面(420)与大功率半导体构件(20)的至少一个第二接触面(200)和负载连接件(50)的至少一个第三接触面(500)同时或者顺次进行材料配合的连接;
·将由至少一个大功率半导体构件(20)、连接装置(40)和负载连接件(50)组成的复合体设置成所述大功率半导体模块的壳体(30)。
2.按权利要求1所述的方法,其中,所述连接装置(40)的上面设置有与所述负载连接件(20)的所述接触面(200、420)的各区段在设置成所述壳体(30)时垂直地置于通过所述衬底(10)限定的平面上并且为此事先将所述连接装置(40)在弯曲区域(48)内弯曲。
3.按权利要求1和2所述的方法,其中,所述连接装置(40)的所述绝缘箔(44)在从所述衬底向所述箔(44)的边缘的方向上以如下方式超出所有第一导体带,即,到伸展直至所述边缘或者接近所述边缘的第二箔的第二导体带(46)保持足够的间距(70),以遵守针对电安全性的空气隙和爬电距离,并且其中,在设置成所述壳体(30)后,所述绝缘箔(44)连同至少一个第二导体带(46)超出所述壳体。
4.按权利要求1所述的方法,其中,至少一个负载连接件(50)构成为角状金属成型件,所述角状金属成型件的用于与所述连接装置(40)连接的接触面(500)设置在第一臂的外侧上,并且所述角状金属成型件的第二臂具有用于螺钉穿通部(56)的凹部(52),并且所述第二臂平行于所述衬底(10)地设置,以及角形在设置在所述衬底内之前构成。
5.大功率半导体模块,具有衬底(10)、连接装置(40)和大量负载连接件(50),其中,至少一个大功率半导体构件(20)设置在所述衬底(10)的导体带(14)上并且适于电路地借助由具有导电的且结构化的第一金属箔(42)、电绝缘箔(44)和导电的且结构化的第二金属箔(46)的层序列组成的连接装置(40)与至少一个负载连接件(50)连接,其中,各结构化部形成各金属箔构成的第一导体带和第二导体带,其中,至少一个第一导体带(42)具有接触面(420),其与负载连接件(50)材料配合地连接,并且其中,所述连接装置(40)具有能与外部的印制电路板(60)连接的辅助接触连接面(460)。
6.按权利要求5所述的大功率半导体模块,其中,所述连接装置(40)的上面设置有与所述负载连接件(50)的接触面(420)的区段垂直地置于通过所述衬底(10)限定的所述平面上。
7.按权利要求6所述的大功率半导体模块,其中,所述连接装置的所述绝缘箔(44)在从所述衬底(10)向所述箔(44)的边缘的方向上以如下方式超出所有第一导体带(42),即,到伸展直至所述边缘的所述第二箔的第二导体带(46)保持足够的间距(70),以遵守针对电安全性的空气隙和爬电距离,并且其中,所述绝缘箔(44)的该部分连同至少一个第二导体带(46)超出所述壳体(30)。
8.按权利要求5所述的大功率半导体模块,其中,至少一个负载连接件(50)构成为角状金属成型件,所述金属成型件的用于与所述连接装置(40)连接的接触面(500)设置在第一臂的外侧上,并且所述金属成型件的第二臂具有用于螺钉穿通部(56)的凹部(52),并且所述第二臂平行于所述衬底(10)地设置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赛米控电子股份有限公司,未经赛米控电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010202629.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:晶体振子的制造方法
- 下一篇:防眩膜的制造方法、防眩膜及模具的制造方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造