[发明专利]摩擦方法、装置、取向膜及光学构件的制造方法

权利要求书

1.一种摩擦方法，其中，使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，

所述摩擦用布材是在底布组织的经线和纬线组成的基布上织入绒头纱线而形成的，

并且，所述绒头纱线在摩擦时的弯曲度用A和B的比值(B/A)×100表示时，以将该比值设定在60～90％的范围内的状态进行摩擦，其中，A为所述摩擦前的所述绒头纱线的全长，B为对所述绒头纱线施加摩擦加重时的摩擦中从所述基布面到所述取向膜形成层面的长度。

2.如权利要求1所述的摩擦方法，其特征在于，调整进行所述摩擦的摩擦室内的相对湿度，改变所述绒头纱线的刚性，由此将所述绒头纱线的弯曲度设定在所述比值范围内。

3.如权利要求2所述的摩擦方法，其特征在于，将所述摩擦室内的相对湿度调整在10～50％的范围内。

4.如权利要求1所述的摩擦方法，其特征在于，在所述绒头纱线的表面涂覆树脂，改变绒头纱线的刚性，由此将所述绒头纱线的弯曲度设定在所述比值范围内。

5.一种摩擦方法，其特征在于，使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，具有：

加湿工序，其中，加湿进行所述摩擦之前的前室内而对所述支撑体赋予湿气；和

除湿工序，其中，以使进行所述摩擦的摩擦室内的相对湿度比所述前室内更小的方式进行除湿，从而防止由于搬运所述支撑体，导致从所述前室带进所述摩擦室内的湿气使所述摩擦用布材的水分上升。

6.如权利要求5所述的摩擦方法，其特征在于，以使所述前室的相对湿度为55％～80％的方式进行加湿，同时，以使所述摩擦室的相对湿度为10％～50％的方式进行除湿。

7.如权利要求5或6所述的摩擦方法，其特征在于，在所述前室中的加湿工序和所述摩擦室的除湿工序之间，设置湿气带入防止工序，其中，只留下能够使所述支撑体通过的狭小缝隙而将所述的前室和所述的摩擦室分隔开，由此防止从所述前室带入湿气至所述摩擦室内。

8.如权利要求5或6所述的摩擦方法，其特征在于，设置使所述摩擦室内的气压比所述前室内的气压高的气压控制工序。

9.一种摩擦装置，其使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，

具有加湿进行所述摩擦前的前室内的加湿机构和对所述摩擦时的摩擦室内进行除湿的除湿机构。

10.如权利要求9所述的摩擦装置，其特征在于，在所述前室和所述摩擦室之间，只留下能够使所述支撑体通过的狭小缝隙，而设置有将所述前室和所述摩擦室分隔开的分隔结构。

11.如权利要求9或10所述的摩擦装置，其特征在于，具有：

调整所述前室内气压的第1气压调整机构、

调整所述摩擦室内气压的第2气压调整机构、和

控制所述第1和第2气压调整机构的气压差的控制机构。

12.如权利要求9或10所述的摩擦装置，其特征在于，在所述摩擦室内，设置有对所述摩擦辊的摩擦用布材直接进行除湿的摩擦用布材除湿机构。

13.一种取向膜的制造方法，其特征在于，利用如权利要求1～6中任一项所述的摩擦方法，在支撑体上形成取向膜。

14.一种光学构件的制造方法，其特征在于，包括：

在由权利要求13所述的制造方法形成的取向膜上形成液晶层的液晶层形成工序；

使所述形成的液晶层取向的液晶取向工序；以及

使所述取向的液晶层固定的液晶层固定工序。

15.如权利要求14所述的光学构件的制造方法，其特征在于，所述光学部件是可使用于液晶显示装置的光学补偿薄膜和亮度提高薄膜中的任意一种。