[发明专利]一种POSS杂化方酸菁近红外吸收染料及其制备方法

权利要求书

1.一种POSS杂化方酸菁近红外吸收染料，其特征在于：该染料结构由至少包含一种活性基团的低聚倍半硅氧烷POSS单体与卤代方酸菁单体构成，其中，低聚倍半硅氧烷单体与卤代方酸菁单体组分的摩尔比为2～1∶1～4。

2.根据权利要求1所述的一种POSS杂化方酸菁近红外吸收染料，其特征在于：所述的至少包含一种活性基团的低聚倍半硅氧烷POSS单体结构通式为(RSiO_1.5)n，其中n为8、10、12、14或16，R彼此相同或不同，R为氢原子、卤原子、羟基、C_1-20烷基、链烯基、炔基、芳基、脂环基、烷氧基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基、炔基或-OSiR₁R₂R₃，R₁、R₂、R₃分别独立为氢原子、卤原子、羟基、C_1-20烷基、链烯基、炔基、芳基、脂环基或烷氧基；其中，活性基团为乙烯基、烯丙基、苯乙烯基或炔基。

3.根据权利要求2所述的一种POSS杂化方酸菁近红外吸收染料，其特征在于：所述的低聚倍半硅氧烷POSS单体结构式为：

4.根据权利要求1所述的一种POSS杂化方酸菁近红外吸收染料，其特征在于：所述的卤代方酸菁单体为，

其中，R₁，R₂为卤代苯基、卤代吡咯基、卤代喹啉基或卤代吲哚基，R₁、R₂彼此相同或不同。

5.一种POSS杂化方酸菁近红外吸收材料的制备方法，包括：

在氮气气氛中，将上述POSS单体与卤代方酸菁单体，按摩尔比2～1∶1～4加入到催化剂、缚酸剂、配体及有机溶剂的混合体系中，于130℃～140℃加成或聚合反应10～25h后，再经沉淀、过滤、渗析，得POSS杂化方酸菁近红外吸收材料。

6.根据权利要求5所述的一种POSS杂化方酸菁近红外吸收材料的制备方法，其特征在于：所述催化剂是Pd(Ac)₂，用量为POSS单体用量的0.5～1mol％。

7.根据权利要求5所述的一种POSS杂化方酸菁近红外吸收材料的制备方法，其特征在于：所述缚酸剂是三乙胺、无水碳酸钾或者磷酸钾，用量为POSS单体用量的1.4～3.2mol％。

8.根据权利要求5所述的一种POSS杂化方酸菁近红外吸收材料的制备方法，其特征在于：所述配体是N，N-二甲基氨基乙酸或者三苯基磷，用量为POSS单体用量的1～1.2mol％。

9.根据权利要求5所述的一种POSS杂化方酸菁近红外吸收材料的制备方法，其特征在于：所述有机溶剂选自N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二乙基甲酰胺中的一种或几种，与POSS单体的用量比为25～100mL∶1mmol。

10.根据权利要求5所述的一种POSS杂化方酸菁近红外吸收材料的制备方法，其特征在于：所述的POSS杂化方酸菁近红外吸收材料的结构类型为哑铃型、线型、网络型或交联型。