[发明专利]一种大视场光刻投影物镜

权利要求书

1.一种光刻投影物镜，用于把位于所述投影物镜的物平面内的图案投射到所述投影物镜像平面内，其特征在于从所述物平面开始沿光轴依次设置：

具有负光焦度的第一透镜组；

具有正光焦度的第二透镜组；

孔径光阑；

具有正光焦度的第三透镜组，；所述第三透镜组与第二透镜组关于孔径光阑对称；以及

具有负光焦度的第四透镜组；所述第四透镜组与第一透镜组关于孔径光阑对称；

所述第一透镜组由两片透镜构成，第一透镜光焦度为正，第二透镜光焦度为负；

所述第二透镜组由四片透镜构成，光焦度依次为正、正、正、负；

所述第二透镜组包含一子透镜组，子透镜组包括第二透镜组的第一、第二和第三透镜；

其中，所述光刻投影物镜满足以下关系式：

-0.014＜F₂/f₁＜-0.027

0.015＜f_1-2/f₁＜0.023

0.59＜F_2n/F₂＜0.74

1.33＜V_1-1/V_1-2＜1.53

1.5＜V_2-2/V_2-3＜2.3

1.9＜V_2-2/V_2-4＜2.5

f₁：第一透镜组的焦距；F₂：第二透镜组的焦距；F_2n：第二透镜组的子透镜组的焦距；f_1-2：第一透镜组第二透镜的焦距；

V_1-1和V_1-2：第一透镜组第一透镜和第二透镜的阿贝数；V_2-2和V_2-3：第二透镜组第二透镜和第三透镜的阿贝数；V_2-2和V_2-4：第二透镜组第二透镜和第四透镜的阿贝数。

2.根据权利要求1所述光刻投影物镜，其特征在于放大倍率为-1x。

3.根据权利要求1所述光刻投影物镜，其中所述第一透镜组的第一透镜为平凸透镜，平面面向掩模；所述第一透镜组的第二透镜为双凹透镜。

4.根据权利要求1所述光刻投影物镜，其中所述第一透镜组的第一透镜由低色散材料构成；所述第一透镜组的第二透镜由高色散材料构成。

5.根据权利要求1所述光刻投影物镜，其中所述第二透镜组的第一透镜为双凸透镜；第二透镜组的第二透镜为双凸透镜；第二透镜组的第三透镜为弯月透镜，凹面面向硅片面；第二透镜组的第四透镜为弯月透镜，凹面面向硅片面。

6.根据权利要求1所述投影光刻物镜，其中所述第二透镜组的第一透镜由低色散材料构成；第二透镜组的第二透镜由低色散材料构成；第二透镜组的第三透镜由高色散材料构成；第二透镜组的第四透镜由高色散材料构成。