[发明专利]静电放电保护电路、结构及射频接收器有效

专利信息
申请号: 201010207484.9 申请日: 2010-06-17
公开(公告)号: CN102163840A 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 柯明道;林群祐 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H02H9/00 分类号: H02H9/00;H01L27/04
代理公司: 北京市德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;高雪琴
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 静电 放电 保护 电路 结构 射频 接收器
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种电子电路,特别涉及一种静电放电(electrostatic discharge)保护电路。

背景技术

连接天线的射频(radio frequency;RF)接收器在操作时,很容易受到静电放电(electrostatic discharge;ESD)脉冲的影响。在集成电路的尺寸不断变小的情况下,具有RF接收器的集成电路很容易受到ESD的影响。在公知技术中,通常利用互补金属氧化物半导体(complementary metal oxidesemiconductor;CMOS)或是双极性箝制二极管(bipolar clamp diode),将ESD电流引离集成电路。然而,在高频(如5GHz)操作下时,传统的ESD保护电路的寄生阻抗可能会扭曲正常信号,而造成失真现象。

发明内容

为克服上述现有技术的缺陷,本发明提供一种静电放电保护电路,包括一硅控整流器以及一电感。硅控整流器包括一第一P型半导体材料、一第一N型半导体材料、一第二P型半导体材料及一第二N型半导体材料。第一P型半导体材料、第一N型半导体材料、第二P型半导体材料及第二N型半导体材料交错排列,并且电性耦接至一阳极与一阴极。阳极电性耦接第一P型半导体材料。阴极电性耦接第二N型半导体材料。电感电性耦接于阳极与第二P型半导体材料之间,或是电性耦接于阴极与第一N型半导体材料之间。

本发明另提供一种结构,包括一P型基底、一N型阱区、一P型阱区、一P+半导体材料、一N+半导体材料以及一电感。N型阱区形成在P型基底之中。P型阱区形成在P型基底之中。P+半导体材料形成在N型阱区之中。N+半导体材料形成在P型阱区之中。P+半导体材料、N型阱区、P型阱区及N+半导体材料交错排列。电感电性耦接于P+半导体材料与P型阱区之间,或是电性耦接于N型阱区与N+半导体材料之间。

本发明更提供一种射频接收器,包括一天线以及一静电放电保护电路。天线接收多个射频信号。静电放电保护电路具有一输入端,用以接收射频信号。静电放电保护电路释放射频接收器所接收到的静电放电事件。静电放电保护电路包括一硅控整流器以及一电感。硅控整流器包括一第一P型半导体材料、一第一N型半导体材料、一第二P型半导体材料及一第二N型半导体材料。第一P型半导体材料、第一N型半导体材料、第二P型半导体材料及第二N型半导体材料交错排列,并且电性耦接至一阳极与一阴极。阳极电性耦接第一P型半导体材料。阴极电性耦接第二N型半导体材料。电感电性耦接于阳极与第二P型半导体材料之间,或是电性耦接于阴极与第一N型半导体材料之间。

根据本发明提供静电放电保护电路,在ESD事件发生时,可触发硅控整流器。另外,在射频频段下,可补偿硅控整流器的寄生电容所造成的影响。

为让本发明的特征和优点能更明显易懂,下文特举出优选实施例,并配合附图,作详细说明如下:

附图说明

图1为本发明的射频接收器的一可能实施例。

图2为本发明的ESD保护电路的一可能实施例。

图3为本发明的ESD保护电路的另一可能实施例。

图4A为本发明的ESD保护电路的另一可能实施例。

图4B及图4C为本发明的硅控整流器的可能结构示意图。

图5A-图5D及图6A-图6D图为本发明的硅控整流器的实施方式。

其中,附图标记说明如下:

100:射频接收器;

105:天线;

110:ESD保护电路;

115:低噪声放大器;

120:带通滤波器;

125:混波器;

130:频率合成器;

135:中频信号;

140:本机振荡器信号;

145:射频信号;

200、300、405、410、500A~500D、600A~600D:硅控整流器;

205、350、415、435:阳极;

215:半导体材料层;

210、360、425、445:阴极;

220:偏压源;

310:P型基底;

315、320、325、420、430、440、450:阱区;

330:SCR路径;

335:二极管路径;

505A~505D:电感;

515A~515D:晶体管;

510A~510D:ESD检测电路;

605A、605B:二极管。

具体实施方式

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