[发明专利]静电放电保护电路、结构及射频接收器有效
申请号: | 201010207484.9 | 申请日: | 2010-06-17 |
公开(公告)号: | CN102163840A | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 柯明道;林群祐 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H02H9/00 | 分类号: | H02H9/00;H01L27/04 |
代理公司: | 北京市德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 陆鑫;高雪琴 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 放电 保护 电路 结构 射频 接收器 | ||
技术领域
本发明涉及一种电子电路,特别涉及一种静电放电(electrostatic discharge)保护电路。
背景技术
连接天线的射频(radio frequency;RF)接收器在操作时,很容易受到静电放电(electrostatic discharge;ESD)脉冲的影响。在集成电路的尺寸不断变小的情况下,具有RF接收器的集成电路很容易受到ESD的影响。在公知技术中,通常利用互补金属氧化物半导体(complementary metal oxidesemiconductor;CMOS)或是双极性箝制二极管(bipolar clamp diode),将ESD电流引离集成电路。然而,在高频(如5GHz)操作下时,传统的ESD保护电路的寄生阻抗可能会扭曲正常信号,而造成失真现象。
发明内容
为克服上述现有技术的缺陷,本发明提供一种静电放电保护电路,包括一硅控整流器以及一电感。硅控整流器包括一第一P型半导体材料、一第一N型半导体材料、一第二P型半导体材料及一第二N型半导体材料。第一P型半导体材料、第一N型半导体材料、第二P型半导体材料及第二N型半导体材料交错排列,并且电性耦接至一阳极与一阴极。阳极电性耦接第一P型半导体材料。阴极电性耦接第二N型半导体材料。电感电性耦接于阳极与第二P型半导体材料之间,或是电性耦接于阴极与第一N型半导体材料之间。
本发明另提供一种结构,包括一P型基底、一N型阱区、一P型阱区、一P+半导体材料、一N+半导体材料以及一电感。N型阱区形成在P型基底之中。P型阱区形成在P型基底之中。P+半导体材料形成在N型阱区之中。N+半导体材料形成在P型阱区之中。P+半导体材料、N型阱区、P型阱区及N+半导体材料交错排列。电感电性耦接于P+半导体材料与P型阱区之间,或是电性耦接于N型阱区与N+半导体材料之间。
本发明更提供一种射频接收器,包括一天线以及一静电放电保护电路。天线接收多个射频信号。静电放电保护电路具有一输入端,用以接收射频信号。静电放电保护电路释放射频接收器所接收到的静电放电事件。静电放电保护电路包括一硅控整流器以及一电感。硅控整流器包括一第一P型半导体材料、一第一N型半导体材料、一第二P型半导体材料及一第二N型半导体材料。第一P型半导体材料、第一N型半导体材料、第二P型半导体材料及第二N型半导体材料交错排列,并且电性耦接至一阳极与一阴极。阳极电性耦接第一P型半导体材料。阴极电性耦接第二N型半导体材料。电感电性耦接于阳极与第二P型半导体材料之间,或是电性耦接于阴极与第一N型半导体材料之间。
根据本发明提供静电放电保护电路,在ESD事件发生时,可触发硅控整流器。另外,在射频频段下,可补偿硅控整流器的寄生电容所造成的影响。
为让本发明的特征和优点能更明显易懂,下文特举出优选实施例,并配合附图,作详细说明如下:
附图说明
图1为本发明的射频接收器的一可能实施例。
图2为本发明的ESD保护电路的一可能实施例。
图3为本发明的ESD保护电路的另一可能实施例。
图4A为本发明的ESD保护电路的另一可能实施例。
图4B及图4C为本发明的硅控整流器的可能结构示意图。
图5A-图5D及图6A-图6D图为本发明的硅控整流器的实施方式。
其中,附图标记说明如下:
100:射频接收器;
105:天线;
110:ESD保护电路;
115:低噪声放大器;
120:带通滤波器;
125:混波器;
130:频率合成器;
135:中频信号;
140:本机振荡器信号;
145:射频信号;
200、300、405、410、500A~500D、600A~600D:硅控整流器;
205、350、415、435:阳极;
215:半导体材料层;
210、360、425、445:阴极;
220:偏压源;
310:P型基底;
315、320、325、420、430、440、450:阱区;
330:SCR路径;
335:二极管路径;
505A~505D:电感;
515A~515D:晶体管;
510A~510D:ESD检测电路;
605A、605B:二极管。
具体实施方式
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