[发明专利]具有防电磁辐射及滤光功能的显示器滤光片及使用该滤光片的显示器

说明书

技术领域

本发明涉及显示器件中的滤光片，特别是涉及等离子体显示器(PDP)中滤光片的防电磁辐射及滤光功能的滤光片及使用该滤光片的等离子体显示器。

背景技术

等离子体显示器容易被制成大尺寸的平板显示器，并且适合于高清晰数字电视。但是PDP工作时，会发射出大量磷光体闪烁、电磁波、近红外线及氖气(Ne)发出的橙黄色光。为了克服这些缺点，在PDP装置中使用滤光片，滤光片可以屏蔽电磁波和近红外线、防止闪烁和改善色纯度。

目前，在可见光谱内保持高光透射率及低折射率的透明导电膜或导电网被用作电磁屏蔽层，用于屏蔽所产生的电磁波。导电网制成的电磁屏蔽层表现出优异的电磁屏蔽性能，其一般是采用光刻蚀法或金属丝网布线方法在膜片上制成金属导电网格形成屏蔽电磁波功能层，但是光刻蚀法制备导电网工艺要求高，制造成本高，不易机械化连续生产；金属丝网布线方法要求把各种功能膜层层叠压复合或贴合在一起，贴合工艺和复合工艺要求高，成本高，成品率低，透光率低。虽然导电网型电磁波屏蔽层的PDP滤光片表现出优异的电磁波屏蔽效果，但是这种滤光片降低了透明度并会引起图像失真。

申请号为：200610022680.2、名称为：等离子体显示器滤光片及使用该滤光片的显示器，公开了采用真空连续磁控溅射的方法在透明树脂基片的一面镀有减反射增透导电膜系，减反射增透导电膜系是由以银或银合金为导电基础层、在银或银合金导电基础层的两面对称有低折射率透明金属氧化物膜层Mel、在低折射率透明金属氧化物膜层两面对称有高折射率透明金属氧化物膜层Meh而形成Meh/Mel/银或银合金/Mel/Meh的5层膜组成，这5层膜经过3次或4次重叠而形成在透明树脂基片上的13层或17层镀膜层。该申请采用高、低折射率金属氧化物和银或银合金的有机结合来形成减反增透导电膜系，还采用了价格昂贵的银为基础的导电膜层，等离子体显示器滤光片成本难以下降。

申请号为：200610021717.X、名称为：等离子体显示器的具有防电磁辐射及滤光功能的滤光片，公开了采用连续磁控溅射的方法在透明树脂基片的一面镀上有防电磁辐射及滤光功能的镀膜层，镀膜层是由TiO₂/AZOY或ITO/Ag/AZOY或ITO/TiO₂这样的膜系重复镀层组成的13层或17层膜层结构。该申请以银为主要膜层，其上沉积一层高折射率的TiO₂膜层，在银层和TiO₂之间沉积一层透明的金属氧化物膜层，利用这一层金属氧化物自身防氧化能力来增加对银层的保护；同时利用该层膜是纳米级薄膜，对红外光波有特殊吸收能力，与银层和TiO₂膜层组合后共同提高紫外光、近红外光、远红外光的吸收和阻挡能力。该申请以银层为基础，在其两边分别对称沉积金属氧化物膜层TiO₂的5层结构，由这5层结构可以巧妙的形成3至4组的重复而形成13层或17层膜结构，最终实现1.5Ω/口以下的表面电阻及对紫外光、近红外光的滤光功能。

这种以银层为主的3层银或4层银结构，电磁屏蔽功能层主要靠多层银来实现，即用多层银来达到电阻小于1.5Ω/口，利用金属氧化物自身防氧化能力来增加对银层的保护。由于银极易氧化或侵蚀，需要金属氧化物层来保护，并且银价格昂贵，在磁控溅射制备银膜层时，厚度需要达到约12nm以上才能形成连续膜层，否则银只能形成孤岛颗粒状而达不到低电阻率的要求，这又要消耗更多的贵金属银，使滤光片的成本难以下降。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种不采用贵金属银、成本低的具有防电磁辐射及滤光功能的显示器滤光片。

本发明解决技术问题所采用的技术方案是：具有防电磁辐射及滤光功能的显示器滤光片，包括透明高分子基片，设置在透明高分子基片上的电磁波屏蔽层、抗反射功能膜层和引出电极，所述电磁波屏蔽层是由TiO₂/AZO或ITO或GZO/Cu/GZO或ITO或AZO重复组成的13层或17层结构。

进一步的，所述AZO是氧化锌中掺杂部分氧化铝组成的氧化物膜层，ITO是掺锡氧化铟材料组成的膜层，GZO是氧化锌中掺杂部分氧化镓组成的氧化物膜层。

进一步的，所述TiO₂厚度为10-250nm，AZO或ITO或GZO厚度为1.0-50nm，Cu厚度为2-20nm。

进一步的，所述引出电极是在镀有电磁波屏蔽层的透明高分子基片四周粘贴与电磁波屏蔽层接触的U形金属箔片或平面金属薄膜。