[发明专利]合成石英玻璃衬底的微处理无效
| 申请号： | 201010209818.6 | 申请日： | 2010-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN101863624A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 山崎裕之;竹内正树 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 合成 石英玻璃 衬底 处理 | ||
【权利要求书】：
1.一种通过湿法刻蚀微处理合成石英玻璃衬底的方法，该衬底包括待刻蚀的区域和待掩模保护的区域，该方法包括以下步骤：
至少在衬底的掩模保护区域形成有机涂层，以及
在湿法刻蚀前，在有机涂层上形成光致抗蚀剂膜。
2.根据权利要求1的方法，其中有机涂层包含硅氮烷化合物或具有通式(1)的化合物：
R4-nSiXn (1)
其中，R彼此独立地为取代或未取代的，直链、支链或环状的具有1～18个碳原子的烷基、具有6～18个碳原子的芳基或芳烷基，或具有2～18个碳原子的不饱和脂肪烃基，X为氯、甲氧基或乙氧基，n是1～3的整数。
3.根据权利要求1的方法，其中湿法刻蚀使用含有氢氟酸或氟化物盐的刻蚀液。
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