[发明专利]纳米分子印迹聚合物薄膜的原位制备方法和应用

权利要求书

1.一种纳米分子印迹聚合物薄膜的原位制备方法，其特征在于所述方法包括以下步骤：

(1)将辅助成膜材料、功能单体、模板分子、交联剂和引发剂在适当溶剂中混合均匀，通过旋涂技术在平整基底上旋涂形成分子印迹聚合物前驱体的复合膜；

(2)通过对分子印迹聚合物前驱体的复合膜进行光引发或热聚合反应形成纳米膜；

(3)洗脱去除纳米膜中的模板分子即得纳米厚度的分子印迹聚合物薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述方法中辅助成膜材料选自聚苯乙烯、聚乙烯醇；所述辅助成膜材料在混合物溶液的浓度在5mg/ml～100mg/ml。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述方法中功能单体选自N，N-二乙基胺乙基甲基丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、三氟甲基丙烯酸、乙烯基苯甲酸、亚甲基丁二酸、2-丙烯酰胺-2-甲基-1-丙磺酸、2-乙烯基吡啶、4-乙烯基吡啶、乙烯基咪唑、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺的一种。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述溶剂选自甲苯、乙腈、氯仿、四氢呋喃、正己烷、乙醇、甲醇。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述方法中基底材料选自玻璃、硅片、金膜。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述交联剂选自二甲基丙烯酸乙二醇酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙烯基苯、三羟甲基基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、N，N’-亚甲基双丙烯酰胺的一种。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于制备所得的纳米分子印迹聚合物薄膜光学厚度在50～1000nm内。

8.一种权利要求1所述的方法在制备白光干涉反射光谱传感器的传感介质膜方面的应用。