[发明专利]利用常压低温等离子体技术制备的复合膜有效

专利信息
申请号: 201010211258.8 申请日: 2010-06-28
公开(公告)号: CN102179183A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 李战胜;李杨;张犇;曲连续;张春庆 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: B01D69/12 分类号: B01D69/12;B01D71/78;B01D67/00
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 梅洪玉
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 利用 常压 低温 等离子体 技术 制备 复合
【权利要求书】:

1.一种利用常压低温等离子体技术制备的复合膜,其特征在于,作为底膜的多孔膜预涂覆接枝单体;等离子体辐照预涂接枝单体的多孔膜,引发同步辐照接枝反应;等离子辐照后接枝反应;后处理得到复合膜;所述的多孔膜不溶于芳烃,接枝单体对醇、芳烃有较强的亲和性。

2.根据权利要求1所述的复合膜,其特征在于所述的等离子体为常压介质阻挡放电等离子体,放电条件为:

放电气体氦气;

辐照功率8~150W;

辐照时间10~150s。

3.根据权利要求1所述的复合膜,其特征在于,多孔膜的制备材料为含丙烯腈聚合物、含氟聚合物、聚烯烃、聚炔烃。

4.根据权利要求1所述的复合膜,其特征在于,所述的接枝单体为甲基丙烯酸酯、含聚氧乙烯链的聚乙二醇甲基丙烯酸酯和聚乙二醇甲醚甲基丙烯酸酯,单体浓度为:0.108~0.54mol/L。

5.权利要求1所述复合膜的应用,其特征在于,复合膜用于芳烃/烷烃分离、醇/水分离、纳滤。

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