[发明专利]母板及TFT阵列基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201010211521.3 申请日: 2010-06-21
公开(公告)号: CN102289115A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 刘华锋;肖红玺;苏顺康;吴平;丁汉亭 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1333;H01L27/02;H01L21/77
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 张丽荣
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 母板 tft 阵列 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种母板,包括具有至少一个显示区域的基板,并且所述显示区域的周边设置有预切割区域,其特征在于,每个显示区域相邻两侧的预切割区域分别设有电连接的栅线连通线和数据连通线;所述栅线连通线与对应显示区域中栅极扫描线均电连接,所述数据连通线与对应显示区域中数据扫描线均电连接。

2.根据权利要求1所述的母板,其特征在于,所述栅线连通线和数据连通线均与栅极扫描线位于同一层并通过同一掩模板工艺制造,所述栅线连通线和数据连通线直接电连接,所述栅线连通线与对应显示区域中栅极扫描线直接电连接;

所述数据连通线通过刻蚀形成的过孔与对应显示区域中数据扫描线电连接,或者所述数据连通线通过离地剥离形成的过孔与对应显示区域中数据扫描线电连接。

3.根据权利要求1所述的母板,其特征在于,所述栅线连通线和数据连通线均与数据扫描线位于同一层并通过同一掩模板工艺制造,所述栅线连通线和数据连通线直接电连接,所述数据连通线与对应显示区域中数据扫描线直接电连接;

所述栅线连通线通过刻蚀形成的过孔与对应显示区域中栅极扫描线电连接,或者所述栅线连通线通过离地剥离形成的过孔与对应显示区域中栅极扫描线电连接。

4.根据权利要求1所述的母板,其特征在于,所述栅线连通线与栅极扫描线位于同一层并通过同一掩模板工艺制造,并与对应显示区域中栅极扫描线直接电连接;所述数据连通线与数据扫描线位于同一层并通过同一掩模板工艺制造,并与对应显示区域中数据扫描线直接电连接;

所述栅线连通线和数据连通线通过刻蚀形成的过孔电连接,或者所述栅线连通线和数据连通线通过离地剥离形成的过孔电连接。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的母板,其特征在于,所述栅线连通线位于栅极扫描线PAD区域相对一侧的预切割区域,所述数据连通线位于数据扫描线PAD区域相对一侧的预切割区域。

6.根据权利要求1至4中任意一项所述的母板,其特征在于,在对所述母板进行测试之前,在栅极扫描线上与栅线连通线电连接的一端刻蚀出断开区域,断开所述栅线连通线与栅极扫描线的电连接;在数据扫描线上与数据连通线电连接的一端刻蚀出断开区域,断开所述数据连通线与数据扫描线的电连接。

7.根据权利要求6所述的母板,其特征在于,所述数据扫描线上的断开区域位于所述数据扫描线与数据连通线电连接的位置,或者位于所述数据扫描线与数据连通线电连接的位置向数据扫描线偏移预定距离的位置;所述栅极扫描线上的断开区域位于所述栅极扫描线与栅线连通线电连接的位置,或者位于所述栅极扫描线与栅线连通线电连接的位置向栅极扫描线偏移预定距离的位置。

8.一种TFT阵列基板的制造方法,其特征在于,所述TFT阵列基板具有至少一个显示区域,并且所述显示区域的周边设置有预切割区域,所述制造方法包括:

在每个显示区域相邻的两侧的预切割区域分别形成电连接的栅线连通线和数据连通线;所述栅线连通线与对应显示区域中栅极扫描线均电连接,所述数据连通线与对应显示区域中数据扫描线均电连接。

9.根据权利要求8所述的TFT阵列基板的制造方法,其特征在于,在每个显示区域相邻的两侧的预切割区域分别形成电连接的栅线连通线和数据连通线包括:

(1)在具有至少一个显示区域的基板上沉积栅金属层;

(2)对所述栅金属层进行构图工艺形成栅图案,该栅图案包括栅极扫描线、与栅极扫描线相连的栅极、以及位于每个显示区域相邻两侧的栅线连通线和数据连通线,并在所述数据连通线上与待形成的数据扫描线相交处预留光刻胶;所述栅线连通线分别与数据连通线、栅极扫描线直接电连接;

(3)在所述具有栅图案的基板上依次沉积栅极绝缘薄膜、有源薄膜;

(4)对所述有源薄膜进行构图工艺形成与栅极重叠的有源薄膜图案,并对所述预留光刻胶进行离地剥离,将预留光刻胶对应位置的栅极绝缘薄膜和有源薄膜去除;

(5)在具有有源薄膜图案的基板上形成源/漏图案,该源/漏图案包括与栅极扫描线交叉的数据扫描线、薄膜晶体管的源极和漏极;所述数据扫描线延伸至所述预留光刻胶位置处,并与所述数据连通线形成电连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010211521.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top