[发明专利]一种用于厚膜光刻胶的清洗液

权利要求书

1.一种用于厚膜光刻胶的清洗液，包括：二甲基亚砜，醇钾，芳基醇和醇胺。

2.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的二甲基亚砜的质量百分含量为20～98.8％；所述的醇钾的质量百分含量为0.1～15％；所述的芳基醇的质量百分含量为1～30％；以及所述的醇胺的质量百分含量为0.1～50％。

3.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的醇钾为选自一元醇钾、二元醇钾和/或多元醇钾中的一种或多种。

4.根据权利要求3所述的清洗液，其特征在于：所述的醇钾为选自甲醇钾、乙醇钾、叔丁醇钾、乙二醇钾、丙三醇钾和/或戊五醇钾中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的芳基醇为选自苯甲醇、苯乙醇、二苯甲醇、邻氨基苯甲醇、对氨基苯甲醇、甲基苯甲醇、二甲基苯甲醇、三甲基苯甲醇、邻苯二甲醇、间苯二甲醇和/或对苯二甲醇中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的醇胺为选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、二甲基乙醇胺、二甘醇胺和/或羟乙基乙二胺中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的清洗液，还包括：腐蚀抑制剂，所述腐蚀抑制剂为选自酚类腐蚀抑制剂、羧酸或羧酸酯类腐蚀抑制剂和/或苯并三氮唑类腐蚀抑制剂中的一种或多种。

8.根据权利要求7所述的清洗液，其特征在于：所述的酚类腐蚀抑制剂为1，2-二羟基苯酚和/或连苯三酚。

9.根据权利要求7所述的清洗液，其特征在于：所述的羧酸或羧酸酯类腐蚀抑制剂为选自苯甲酸、对氨基苯甲酸甲酯、没食子酸、没食子酸甲酯、聚丙烯酸和/或聚丙烯酸甲酯中的一种或多种。

10.根据权利要求7所述的清洗液，其特征在于：所述的苯并三氮唑类腐蚀抑制剂选自苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑和/或甲基苯并三氮唑钾盐中的一种或多种。

11.根据权利要求7所述的清洗液，其特征在于：所述的腐蚀抑制剂的质量百分含量为不超过5％。