[发明专利]卡其色真空镀膜件及其制备方法

权利要求书

1.一种卡其色真空镀膜件，包括一基体、一衬底层及一颜色层，该衬底层直接与该基体结合，该颜色层形成于该衬底层的表面，其特征在于：该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于100至60，a^*坐标介于0至2，b^*坐标介于12至17。

2.如权利要求1所述的卡其色真空镀膜件，其特征在于：该衬底层为一TiN_x层，该颜色层为一TiN_y层，该颜色层中的氮原子百分含量大于该衬底层中氮原子百分含量，即y＞x。

3.如权利要求1所述的卡其色真空镀膜件，其特征在于：该衬底层与颜色层的总体厚度为0.6～1μm，其中该颜色层的厚度为0.3～0.5μm。

4.如权利要求1所述的卡其色真空镀膜件，其特征在于：该基体为金属、玻璃、陶瓷及塑料中的一种。

5.如权利要求4所述的卡其色真空镀膜件，其特征在于：该卡其色真空镀膜件为电子装置外壳。

6.一种卡其色真空镀膜件的制备方法，包括以下步骤：

提供一承镀基体，并对该基体进行表面去污清洗；

使用一钛靶，以氮气为反应气体，通过磁控溅射镀膜方法对基体打底，以在基体上形成一衬底层，所用氮气流量为8～12sccm；

调节所述氮气流量至20～30sccm，继续对基体进行镀膜，以在该衬底层上形成一颜色层，该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于100至60，a^*坐标介于0至2，b^*坐标介于12至17。

7.如权利要求6所述的卡其色真空镀膜件的制备方法，其特征在于：该衬底层为一TiN_x层，该颜色层为一TiN_y层，该颜色层中的氮原子百分含量大于该衬底层中氮原子百分含量，即y＞x。

8.如权利要求6所述的卡其色真空镀膜件的制备方法，其特征在于：形成该衬底层的工艺参数为：抽真空度为8×10^-3Pa，氩气流量为400～450sccm，功率为5～20kw，偏压为-180～-220V，占空比为25～35％，氮气流量为8～12sccm，镀膜时间为20～30分钟。

9.如权利要求8所述的卡其色真空镀膜件的制备方法，其特征在于：形成该衬底层的工艺参数为：抽真空度为8×10^-3Pa，氩气流量为425sccm，功率为8kw，偏压为-200V，占空比为30％，氮气流量为10sccm，镀膜时间为25分钟。

10.如权利要求6所述的卡其色真空镀膜件的制备方法，其特征在于：形成该颜色层步骤的氮气流量为24sccm，镀膜时间为25分钟。