[发明专利]旋转式激光出射装置

权利要求书

1.一种旋转式激光出射装置，其包括：旋转体，其在设置于基台的旋转轴周围能够旋转地被支承；激光出射部，其用于沿与所述旋转轴正交的基准平面射出激光且被收容于所述旋转体，其特征在于，

在所述基台上设置有基准反射部，该基准反射部构成平行于所述基准平面的基准反射面，

所述激光出射部包括：激光光源，其能够射出所述激光；出射光学系统，其使从该激光光源射出的所述激光向平行于所述基准平面的出射方向射出，

在所述旋转体相对所述旋转轴倾斜并且所述激光的出射方向相对所述基准平面倾斜的情况下，

所述出射光学系统使从所述激光光源射出的所述激光向所述基准反射面射出，并且使被该基准反射面反射的所述激光向相对所述激光的出射光轴倾斜的方向射出，以抵消所述激光的所述出射方向的所述倾斜。

2.如权利要求1所述的旋转式激光出射装置，其特征在于：

该出射光学系统包括：

反射光学部，其使从所述激光光源射出的所述激光向所述基准反射面射出，并且使被该基准反射面反射的该激光向所述激光的出射光轴方向反射；

抵消光学部，其使被所述基准反射面反射的所述激光向相对所述激光的出射光轴倾斜的方向射出，以抵消所述激光的所述出射方向的所述倾斜。

3.如权利要求2所述的旋转式激光出射装置，其特征在于：

所述抵消光学部包括：

光束扩展光学系统，其将入射的光束作为平行光束射出；

平行光学部件，其使入射到该光束扩展光学系统的所述激光成为平行光束。

4.如权利要求3所述的旋转式激光出射装置，其特征在于：

所述光束扩展光学系统设置在被所述基准反射面反射后的所述激光行进的光路上，根据在从所述激光光源射出的所述激光行进的光路上的所述平行光学部件的设定位置和在所述基准反射面上的反射次数，来设定角倍率。

5.如权利要求1所述的旋转式激光出射装置，其特征在于：

所述基准反射部呈现为以所述旋转轴为中心的环状。

6.如权利要求1所述的旋转式激光出射装置，其特征在于：

在所述激光出射部上设置有柱面透镜，该柱面透镜使经过所述出射光学系统的所述激光形成随着远离所述旋转轴而扩展的扇形，

所述激光出射部经由所述柱面透镜射出至少两束扇形的所述激光，并使两该扇形的所述激光的正交剖面上的长度方向朝向互不相同的方向。

7.如权利要求6所述的旋转式激光出射装置，其特征在于：

在所述激光出射部上设置有分割光学部件，该分割光学部件用于将经过所述出射光学系统的所述激光分割为多束。

8.如权利要求7所述的旋转式激光出射装置，其特征在于：

所述分割光学部件为沿与所述旋转轴垂直的面并列且相互抵接的多个棱镜部件。

9.如权利要求6所述的旋转式激光出射装置，其特征在于：

经由所述柱面透镜射出的多束扇形的所述激光的各光轴设置为在所述旋转轴上的同一部位交叉。

10.一种旋转式激光出射装置，其包括：基台，其具有旋转轴及沿旋转轴延伸的并与旋转轴同轴的支承轴部；旋转体，其在旋转轴周围能够旋转地被支承；激光出射部，其用于沿与所述旋转轴正交的基准平面射出激光且被收容于所述旋转体，其特征在于，

在所述基台上设置有基准反射部，该基准反射部构成平行于所述基准平面的基准反射面，

所述激光出射部包括：激光光源，其能够射出所述激光；出射光学系统，将从该激光光源射出的所述激光向平行于所述基准平面的出射方向射出，

在所述旋转体相对所述旋转轴倾斜并且所述激光的出射方向相对所述基准平面倾斜的情况下，

所述出射光学系统使从所述激光光源射出的所述激光向所述基准平面射出，并且使被该基准反射面反射的所述激光向相对所述激光的出射光轴倾斜的方向射出，以抵消所述激光的所述出射方向的所述倾斜。