[发明专利]光学元件、其制造方法及显示装置

权利要求书

1.一种光学元件，具有防反射功能，包括：

基体，具有主表面；以及

多个凸状或凹状的结构，以等于或小于可见光波长的微小间距配置在所述基体的主表面上，

其中，所述基体的其上具有所述结构的主表面具有亲水性，以及

所述基体的其上具有所述结构的主表面与纯水的接触角为30°以下。

2.根据权利要求1所述的光学元件，

其中，所述结构配置为在所述基体的主表面上形成多列轨道，并形成六方点阵图样、准六方点阵图样、四方点阵图样或准四方点阵图样，以及

所述结构均具有椭圆锥形状或椭圆锥台形状，其长轴方向为所述轨道延伸方向。

3.根据权利要求1所述的光学元件，

其中，所述结构配置为在所述基体的主表面上形成多列轨道，并形成准六方点阵图样、四方点阵图样或准四方点阵图样，以及

所述结构在所述基体的主表面上的填充率为65％以上。

4.根据权利要求1所述的光学元件，

其中，所述结构配置为在所述基体的主表面上形成多列轨道，并形成准六方点阵图样，以及

当同一轨道上的所述结构的配置间距由P1表示、并且每个所述结构的底面在所述轨道延伸方向上的直径由2r表示时，所述直径2r与所述配置间距P1的比率((2r/P1)×100)为85％以上。

5.根据权利要求1所述的光学元件，

其中，所述结构配置为在所述基体的主表面上形成多列轨道，并形成四方点阵图样或准四方点阵图样，以及

当同一轨道上的所述结构的配置间距由P1表示、并且每个所述结构的底面在所述轨道延伸方向上的直径由2r表示时，所述直径2r的两倍与所述配置间距P1的比率(((2×2r)/P1)×100)为127％以上。

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的光学元件，其中，所述基体的其上具有所述结构的主表面与油酸的接触角为30°以下。

7.根据权利要求1～5中的任一项所述的光学元件，其中，亲水性表面层设置在所述基体的其上具有所述结构的主表面上。

8.根据权利要求7所述的光学元件，其中，所述亲水性表面层包含亲水性树脂和具有亲水性的金属氧化物中的至少一种。

9.根据权利要求8所述的光学元件，

其中，所述亲水性树脂是具有至少一个亲水基和至少一个(甲基)丙烯酰基的化合物，

所述亲水基是-OH基、-COOH基、-CN基或-NHCOHN₂基，以及

所述金属氧化物是选自由SiO₂、TiO₂、ZnO以及SrTiO₃组成的组中的至少一种。

10.根据权利要求7所述的光学元件，其中，所述亲水性表面层的厚度等于或小于所述结构的配置间距。

11.根据权利要求7所述的光学元件，其中，所述亲水性表面层通过将聚硅氮烷化合物固化来形成。

12.根据权利要求1～5中的任一项所述的光学元件，其中，所述基体的其上具有所述结构的主表面经过电晕处理或等离子体处理。

13.根据权利要求1～5中的任一项所述的光学元件，其中，所述结构包括亲水性树脂和具有亲水性的金属氧化物中的至少一种。

14.根据权利要求2所述的光学元件，

其中，所述结构配置为形成多列直线状轨道，并形成准六方点阵图样，以及

所述轨道延伸方向上的每个所述结构的高度或深度小于所述轨道列方向上的每个所述结构的高度或深度。

15.根据权利要求2所述的光学元件，

其中，所述结构配置为形成多列直线状轨道，并形成四方点阵图样或准四方点阵图样，以及

相对于所述轨道延伸方向倾斜的配置方向上的每个所述结构的高度或深度小于所述轨道延伸方向上的每个所述结构的高度或深度。

16.根据权利要求2所述的光学元件，其中，同一轨道上的所述结构的配置间距P1大于两个相邻轨道之间的所述结构的配置间距P2。