[发明专利]一种含阳离子光固化基团的硅氧化合物及其制备方法有效
申请号: | 201010215782.2 | 申请日: | 2010-09-09 |
公开(公告)号: | CN101906114A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 程喜娥;施文芳;王博世;王小军;陈荣 | 申请(专利权)人: | 长兴化学材料(珠海)有限公司 |
主分类号: | C07F7/18 | 分类号: | C07F7/18;C09K21/06 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人: | 汪祥虬 |
地址: | 519050 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阳离子 光固化 基团 氧化 及其 制备 方法 | ||
1.一种含阳离子光固化基团的硅氧化合物,特征在于其分子通式为:
其中,m为0~2的整数,n为2~4的整数,R1为阳离子光固化基团,R2和R3基团为甲基或苯基。
2.如权利要求1所述的含阳离子光固化基团的硅氧化合物,特征在于所述阳离子光固化基团R1为以下结构:-CH2CH2CH2CH2OCH=CH2、-CH2CH2OCH2CH2OCH=CH2、-CH2C(CH2CH3)(CH2OCH2R4)2、-CH2CH2OCH2R4、-R5、-CH2R5、-CH2CH2O(CO)R5、-CH2CH2OR6、-CH2CH2OCH2CH2OR6、-CH2R7、-R8或-CH2R8;其中,R4为环氧基、R5为5,6-环氧降冰烷-2-基、R6为5-氧杂四环[6.2.1.0.0]十一烷-9-基、R7为3,4-环氧基-环己基、R8为3-氧杂环丁烷-3-基。
3.一种权利要求1所述含阳离子光固化基团的硅氧化合物的制备方法,其特征在于:采用单羟基乙烯基醚类或单羟基-3-氧杂环丁烷类化合物与甲氧基硅烷按摩尔比(1~6)×n∶1,在催化剂存在下混合搅拌至核磁共振氢谱中甲氧基峰消失;或,先用单羟基烯烃化合物与甲氧基硅烷按摩尔比(1~6)×n∶1,在催化剂存在下混合搅拌至核磁共振氢谱中甲氧基峰消失,然后将得到的含硅烯烃化合物滴加到有机过氧酸的有机溶液中进行环氧化反应;其中分子中硅氧碳键的数目n为2~4的整数。
4.如权利要求3所述含阳离子光固化基团的硅氧化合物的制备方法,特征在于所述单羟基乙烯基醚类化合物是4-羟基丁基乙烯基醚或二乙二醇单乙烯基醚。
5.如权利要求3所述含阳离子光固化基团的硅氧化合物的制备方法,特征在于所述单羟基-3-氧杂环丁烷类化合物是3-甲基-3-羟甲基氧杂环丁烷或3-乙基-3-羟甲基氧杂环丁烷。
6.如权利要求3所述含阳离子光固化基团的硅氧化合物的制备方法,特征在于所述催化剂是正钛酸四乙酯、钛酸四异丙酯、钛酸四丁酯或钛酸2-乙基己酯。
7.如权利要求3所述含阳离子光固化基团的硅氧化合物的制备方法,特征在于所述甲氧基硅烷是正硅酸甲酯、苯基三甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、甲基苯基二甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷或二甲基二甲氧基硅烷。
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