[发明专利]一种阴离子有机硅表面活性剂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201010215821.9 申请日: 2010-07-02
公开(公告)号: CN101921398A 公开(公告)日: 2010-12-22
发明(设计)人: 王学川;雒香;强涛涛 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C08G77/38 分类号: C08G77/38;C08G77/46;B01F17/54;C14C9/02
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人: 黄秦芳
地址: 710021 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 阴离子 有机硅 表面活性剂 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种阴离子有机硅表面活性剂的制备方法,依次包括下述步骤:首先将含羟基的硅油与马来酸酐按0.8~1:1的摩尔比进行混合,再加入硅油质量分数0.1%~1%的对甲苯磺酸作为催化剂,用丙酮做溶剂调节粘度,在80~100℃下搅拌反应1~5h,再将反应产物在100~130℃下抽真空,在0.02~0.1MPa的真空度下反应30~100min回收丙酮和过量马来酸酐,加入质量浓度为5%~30%的碱溶液调节pH至7,再与阴离子或者非离子表面活性剂按照1:0.2~0.5的摩尔比进行复配,即得。

2.如权利要求1所述的一种阴离子有机硅表面活性剂的制备方法,其特征在于:所述含羟基的硅油为醇胺基硅油、聚醚环氧硅油、OH501羟基硅油、OH502羟基硅油或OH503羟基硅油。

3.如权利要求1所述的一种由上述方法制得的阴离子有机硅表面活性剂。

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