[发明专利]一种装饰材料及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种装饰材料及其制备方法。

背景技术

目前，装饰材料广泛应用于航空、航天、化工、造船、通信、电子、汽车制造等工业领域。尤其是应用于电子产品的装饰时，可以使电子产品获得美观的外观装饰和更好的质感，从而提高产品的价值。

通常的镀膜方法是采用物理气相沉积，其中磁控溅射的方法尤其是一种很好的镀膜方法，在基材上制备的膜层金属质感强，结合力好，耐磨性和耐腐蚀性能优良，而且膜层的厚度很薄、不影响高端产品或复杂形状产品的功能，是公认的绿色环保工艺。众所周知，采用磁控溅射离子镀的方法所制备的膜层主要包括银色的氮化铬层、金黄色的氮化钛层、玫瑰色的碳氮化钛层、和黑色的碳化钛层。

但是，在目前，采用磁控溅射的方法得到的膜层颜色比较少，不能满足人们的需求。

发明内容

本发明要解决的技术问题是现有的装饰膜层颜色单一的缺点，从而提供一种色彩丰富、具有金属质感的装饰材料及其制备方法。

本发明提供了一种装饰材料，该材料包括基材和镀覆在所述基材上的膜层，所述膜层包括依次镀覆在所述基材上的装饰膜层和金属化膜层；所述装饰膜层为碳氮化钛、氮化铝钛和氮化钨中的一种；所述金属化膜层为钨、铝、铬、钛和不锈钢的一种。

本发明还提供了一种装饰材料的制备方法，该方法包括在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积在所述基材上，以形成依次镀覆在所述基材上的装饰膜层和金属化膜层，所述靶材为钛、钛铝、铬、钨和不锈钢中的至少一种。

本发明提供的镀膜材料，膜层颜色丰富，颜色均匀，而且膜层的金属质感很强，结合力好，耐磨性和耐腐蚀性能优良。

具体实施方式

本发明提供一种装饰材料，该材料包括基材和镀覆在所述基材上的膜层，所述膜层包括依次镀覆在所述基材上的装饰膜层和金属化膜层；所述装饰膜层为碳氮化钛、氮化铝钛和氮化钨中的一种；所述金属化膜层为钨、铝、铬、钛和不锈钢的一种。

根据本发明所提供的装饰材料，所述装饰膜层为碳氮化钛，所述金属化膜层为不锈钢。

根据本发明所提供的装饰材料，所述装饰膜层为氮化铝钛，所述金属化膜层为不锈钢。

根据本发明提供的镀膜材料，所述装饰膜层的厚度和金属化膜层的厚度根据具体的颜色需要而定，在优选情况下，所述形成装饰膜层的磁控溅射条件使所述装饰膜层的厚度为0.8-2um，优选为1-1.5um；所述形成金属化膜层的磁控溅射条件使所述金属化膜层的厚度为2-8nm，优选为3-6nm。

根据本发明提供的镀膜材料，为了增加装饰膜层与基材之间的结合力，在优选情况下，在基材与装饰膜层之间设置有过渡层，所述过渡层为钨、铝、铬、钛和不锈钢中的至少一种。更优选为，所述过渡层为与装饰层相同的金属材料。

根据本发明提供的镀膜材料，所述基材可以采用各种可以进行磁控溅射离子镀的基材，例如可以为不锈钢、钛、铬、铝、镁、锌、钛合金、铝合金或镁合金。

本发明提供的装饰材料的制备方法包括，在磁控溅射条件下依次在基材上形成装饰膜层和金属化膜层，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积在所述基材上，以形成依次镀覆在所述基材上的装饰膜层和金属化膜层，所述靶材为钛、钛铝、铬、钨和不锈钢中的至少一种。

根据本发明所述的装饰材料的制备方法，所述磁控靶优选为对靶结构，可以根据需要使用一对或几对磁控靶，每对磁控靶由一个电源供电，两个磁控靶各自与电源的一极相连，并与整个真空室绝缘。工架件可以围绕真空室的中心轴顺时针或逆时针转动，其转速可以为0.5-10转/分钟，优选为2-6转/分钟。

根据本发明提供的制备方法，在优选情况下，形成所述装饰膜层的靶为平板状，形成所述金属化膜层的靶为圆柱状。所述靶材的纯度优选99.9％以上，更优选为99.99％以上。

根据本发明提供的制备方法，在优选情况下，在所述磁控溅射的过程中用偏压电源轰击膜层。所述偏压电源使带正电的离子间歇地对薄膜有轰击作用，有效地提高了膜层的结合力和致密度。

根据本发明提供的制备方法，在优选情况下，所述形成装饰膜层的磁控溅射条件使所述装饰膜层的厚度为0.8-2um，优选为1-1.5um；所述形成金属化膜层的磁控溅射条件使所述金属化膜层的厚度为2-8nm，优选为3-6nm。