[发明专利]低温形成非晶态透明氧化物薄膜的方法无效
| 申请号： | 201010218263.1 | 申请日： | 2010-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN102312211A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 周雄;杨孟璇;陈柏君 | 申请（专利权）人： | 周雄 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾高雄市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 低温 形成 晶态 透明 氧化物 薄膜 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种低温形成非晶态透明氧化物薄膜的方法，其特征在于其包括以下步骤：
提供一溅镀设备，该溅镀设备具有一腔室及一装设于该腔室内的低温载台，该低温载台内部具有一内层空间及一外层空间，该外层空间是供抽真空用；
设置一样品基板于该溅镀设备的该低温载台上；
填充一冷却剂于该低温载台的该内层空间，以使该样品基板的温度低于273K；
填充一溅镀气体于该溅镀设备的该腔室内，该溅镀气体的凝结温度低于该冷却剂的凝结温度；以及
进行一溅镀步骤，以在该样品基板上形成一非晶态透明氧化物薄膜。
2.根据权利要求1所述的低温形成非晶态透明氧化物薄膜的方法，其特征在于其中所述的冷却剂为液态氮。
3.根据权利要求1所述的低温形成非晶态透明氧化物薄膜的方法，其特征在于其中所述的溅镀气体为氖气。
4.根据权利要求1所述的低温形成非晶态透明氧化物薄膜的方法，其特征在于其中所述的非晶态透明氧化物薄膜为氧化锌掺铝薄膜。
5.根据权利要求1所述的低温形成非晶态透明氧化物薄膜的方法，其特征在于其中所述的溅镀设备为磁控式低温溅镀设备。
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