[发明专利]光电线路板及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201010218265.0 申请日: 2010-06-29
公开(公告)号: CN102316662A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 张成瑞;黄瀚霈;余丞博 申请(专利权)人: 欣兴电子股份有限公司
主分类号: H05K1/00 分类号: H05K1/00;H05K1/02;H05K3/46;G02B6/122
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾桃园县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光电 线路板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光电线路板,其特征在于其包括:

一绝缘层,具有一表面;

一线路层,配置在该表面上;以及

至少一光波导,配置在该表面上,并且包括一核心图案层以及一包覆该核心图案层的包覆层。

2.如权利要求1所述的光电线路板,其特征在于其中所述的该线路层与该包覆层二者皆与该绝缘层接触。

3.如权利要求1所述的光电线路板,其特征在于其中所述的更包括一配置在该表面上的保护层,该保护层覆盖该线路层与该光波导。

4.如权利要求1所述的光电线路板,其特征在于其中所述的该包覆层包括:

一底包覆层,配置在该表面上;以及

一顶包覆层,配置在该核心图案层上,其中该核心图案层被包覆在该顶包覆层与该底包覆层之间。

5.如权利要求4所述的光电线路板,其特征在于其中所述的该顶包覆层与该底包覆层皆为绝缘体。

6.如权利要求5所述的光电线路板,其特征在于其中所述的该线路层覆盖该顶包覆层。

7.如权利要求6所述的光电线路板,其特征在于其中所述的该线路层包括至少一走线,该走线局部覆盖该顶包覆层。

8.如权利要求4所述的光电线路板,其特征在于其中所述的该顶包覆层为金属层。

9.如权利要求4或8中任一权利要求所述的光电线路板,其特征在于其中所述的该底包覆层为绝缘体或金属层。

10.一种光电线路板的制造方法,其特征在于其包括:

提供一包括一绝缘层的基板,其中该绝缘层具有一表面;

在该表面上形成至少一光波导,其中该光波导与该绝缘层接触;以及

在形成该光波导之后,在该表面上形成一线路层,其中该线路层与该绝缘层接触。

11.如权利要求10所述的光电线路板的制造方法,其特征在于其中所述的更包括形成一配置在该表面上的保护层,该保护层覆盖该线路层与该光波导。

12.如权利要求10所述的光电线路板的制造方法,其特征在于其中所述的该基板更包括一配置在该绝缘层上的导电层。

13.如权利要求12所述的光电线路板的制造方法,其特征在于其中所述的形成该光波导的方法包括:

在该导电层上形成一凹槽;

在该凹槽内形成一底包覆层;

在该底包覆层上形成一核心图案层;以及

在该核心图案层上形成一顶包覆层,其中该核心图案层被包覆在该顶包覆层与该底包覆层之间。

14.如权利要求13所述的光电线路板的制造方法,其特征在于其中所述的该底包覆层与该顶包覆层皆为绝缘体。

15.如权利要求14所述的光电线路板的制造方法,其特征在于其中所述的形成该线路层的方法包括:

在该顶包覆层上形成一金属层,其中该金属层全面性覆盖该顶包覆层;

图案化该金属层与该导电层。

16.如权利要求13所述的光电线路板的制造方法,其特征在于其中所述的形成该顶包覆层与该线路层的方法包括:

在该核心图案层上形成一金属层,其中该金属层全面性覆盖该核心图案层与该底包覆层;以及

图案化该金属层与该导电层。

17.如权利要求12所述的光电线路板的制造方法,其特征在于其中所述的该导电层的材料为金属,而形成该光波导的方法包括:

在该导电层上形成一核心图案层;

在该核心图案层上形成一金属层,其中该金属层全面性覆盖该核心图案层;以及

图案化该金属层与该导电层,以形成一顶包覆层、一底包覆层以及该线路层,其中该核心图案层被包覆在该顶包覆层与该底包覆层之间。

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