[发明专利]一种载板加热装置及应用该装置的等离子体处理设备

权利要求书

1.一种载板加热装置，所述载板加热装置包括具有多个加热分区的第一加热器，其特征在于，在所述第一加热器的附近设置有补偿加热器，所述补偿加热器具有针对第一加热器上加热分区的交界处进行补偿加热的补偿加热分区。

2.根据权利要求1所述的载板加热装置，其特征在于，所述补偿加热器设置在所述第一加热器的下方。

3.根据权利要求1或2所述的载板加热装置，其特征在于，还包括设置在所述载板边缘位置处的边缘加热器。

4.根据权利要求1所述的载板加热装置，其特征在于，所述补偿加热器包括框架以及可拆/装地固定于所述框架上的加热元件，所述框架上具有多个用于可拆/装地固定所述加热元件的固定位置，通过变换所述加热元件在所述框架上的固定位置而调整所述补偿加热分区的位置。

5.根据权利要求1所述的载板加热装置，其特征在于，所述补偿加热器上的补偿加热分区的功率可调。

6.根据权利要求1所述的载板加热装置，其特征在于，所述第一加热器上的各个加热分区的功率可调。

7.根据权利要求1所述的载板加热装置，其特征在于，所述第一加热器中的各加热分区的功率在由载板中心至边缘的方向上逐区增大。

8.根据权利要求1所述的载板加热装置，其特征在于，在所述加热分区及补偿加热分区中采用电阻丝作为加热元件。

9.根据权利要求2所述的载板加热装置，其特征在于，所述第一加热器包括9个加热分区，设置在第一加热器下方的所述补偿加热器包括4个补偿加热分区，所述4个补偿加热分区对应于所述第一加热器的各加热分区的交界处而进行补偿加热。

10.一种等离子体处理设备，包括工艺腔室及设置在工艺腔室内的载板，其特征在于，在所述载板附近设置有权利要求1-9中任意一项所述的载板加热装置，用以对所述载板进行均匀加热。