[发明专利]SiC反射镜坯原位制备法及装置

权利要求书

1.SiC反射镜坯原位制备法及装置，其特征在于：

本装置由：

数控加工机具(1)，多功能自发热上下模具[(5)+(6)+(8)+(12)]，隔热层(4)，真空泵与真空罩(3)等组成；

其制备方法为：

(1)在镜坯制备处，由本装置内的数控加工机具制造其型面与反射面或背面吻合、外形尺寸大于镜坯直径的C/C材料矩形板状物，用此板状物做烧结SiC素坯用的发热体和匀温体，兼做承托烧结SiC素坯时的钵体，还同时兼做SiC素坯的成型模具的上下模壳(5)(12)；

(2)制备多孔的炭C材或C/C材料，做蜂窝结构空腔的可除滤水分的空心模芯(8)和侧模(6)；

(3)将上述模壳与模芯组成浇注镜体素坯的模具[(5)+(6)+(8)+(12)]；

(4)在模具型腔中注入反应烧结SiC的浆料；

(5)对模具施加振动，对模芯腔抽真空，待模腔中的浆料高度浓缩后，形成镜体的素坯；

(6)在模具的四周添加隔热材料(4)，再加设真空罩(3)；

(7)在真空条件和模壳、模芯和侧模的共同约束下，让自发热体(5)(12)通电发热升温，对素坯进行烧结；

(8)烧结完成后，移走上模壳(5)；

(9)对芯模(8)加温，让其氧化成二氧化碳后自动跑掉；

(10)在镜坯上加复硅粉，盖上上模壳(5)，加添隔热料(4)和真空罩(3)后再升温，在高温和真空条件下的对烧结坯体进掺硅处理；

(11)对镜坯的反射面用化学气相沉积法(CDV-SiC)进行致密化处理。