[发明专利]溅镀含高蒸气压材料的镀膜的方法与装置无效
| 申请号： | 201010221980.X | 申请日： | 2010-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN102312204A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 黄昆平 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/58 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅镀含高 蒸气 材料 镀膜 方法 装置 | ||
1.一种溅镀含高蒸气压材料的镀膜的装置，其特征在于：所述装置至少包括：
腔体；
溅镀枪，安装在该腔体内；
复合靶材，设置于该溅镀枪上，其中该复合靶材包括一主靶材以及多数个小锭，该些小锭的材料是高蒸气压材料，其中该高蒸气压材料是在1000℃的蒸气压大于1×10-9torr的材料；以及
基材承载台，相对该复合靶材安装在该腔体内。
2.如权利要求1所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的装置，其特征在于：该高蒸气压材料是选自包括镁(Mg)、锌(Zn)、锂(Li)、锡(Sn)、硒(Se)、硫(S)、铝(Al)及其组合中的一种成分。
3.如权利要求1所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的装置，其特征在于：该复合靶材中的该些小锭是贴附在该主靶材上。
4.如权利要求1所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的装置，其特征在于：该复合靶材中的该些小锭是镶在该主靶材中。
5.如权利要求1所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的装置，其特征在于：还包括一金属网格，设置在该基材承载台与该复合靶材之间。
6.如权利要求5所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的装置，其特征在于：该金属网格为平面结构或具多个凸部的结构。
7.如权利要求6所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的装置，其特征在于：各该凸部对应于各该小锭的位置向该基材承载台凸出。
8.一种溅镀含高蒸气压材料的镀膜的方法，其特征在于：所述方法包括：
提供一溅镀设备，其内部包括一复合靶材，该复合靶材包括一主靶材以及多数个小锭，该些小锭的材料是高蒸气压材料，其中该高蒸气压材料是在1000℃的蒸气压大于1×10-9torr的材料；
利用该复合靶材进行溅镀，以在一基材上形成一镀膜；以及
对该镀膜进行退火。
9.如权利要求8所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的方法，其特征在于：该高蒸气压材料是选自包括镁(Mg)、锌(Zn)、锂(Li)、锡(Sn)、硒(Se)、硫(S)、铝(A1)及其组合中的一种成分。
10.如权利要求8所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的方法，其特征在于：该复合靶材中的该些小锭是贴附在该主靶材上。
11.如权利要求8所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的方法，其特征在于：该复合靶材中的该些小锭是镶在该主靶材中。
12.如权利要求8所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的方法，其特征在于：在利用该复合靶材进行该溅镀之前，还包括在该复合靶材与一基材承载台之间设置一金属网格。
13.如权利要求12所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的方法，其特征在于：该金属网格为平面结构或具多个凸部的结构。
14.如权利要求13所述的溅镀含高蒸气压材料的镀膜的方法，其特征在于：各该凸部对应于各该小锭的位置向该基材承载台凸出。
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