[发明专利]一种衡量光相位调制信号质量的方法及装置有效

专利信息
申请号: 201010227641.2 申请日: 2010-07-14
公开(公告)号: CN102340345A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 华锋;易鸿;沈百林 申请(专利权)人: 中兴通讯股份有限公司
主分类号: H04B10/08 分类号: H04B10/08;H04B10/12;H04L27/18
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 吴艳;龙洪
地址: 518057 广东省深圳市南山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 衡量 相位 调制 信号 质量 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种衡量光相位调制信号质量的方法,其特征在于,该方法包括:

定义星座图模板,并根据定义出的所述星座图模板衡量光相位调制信号质量是否符合要求。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,定义星座图模板具体包括:

根据所采用的相位调制格式确定星座图模板的形状和基准点位置;

定义星座图模板的具体参数,所述参数包括模板的大小,以及模板测试通过的准则。

3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,

所述模板测试通过的准则是指,允许落在模板外的信号点数量或者信号点比率;

根据测得的信号点是否符合所述模板测试通过的准则,衡量光相位调制信号质量是否符合要求。

4.如权利要求2或3所述的方法,其特征在于,

对于四相相移键控信号,确定星座图模板的形状为四个圆形模板,所述基准点位置为所述圆形模板的圆心的理想点位置。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,按照如下方式确定所述基准点位置:

所述四个圆形模板的圆心分别分布在其所处象限的角平分线上,且每个圆形模板的圆心到原点的距离相等,为(I基准2+Q基准2)1/2

其中,I基准和Q基准分别为所述圆心的同相分量和正交分量。

6.如权利要求4所述的方法,其特征在于,按照如下方式定义模板的大小:

定义所述圆形模板的半径尺寸大小等于被测系统所允许的误差向量幅度(EVM)的值,其中,EVM=(IERR2+QERR2)1/2

式中,IERR=I基准-I测量

QERR=Q基准-Q测量

7.一种衡量光相位调制信号质量的装置,其特征在于,该装置包括:

星座图模板定义模块,用于定义星座图模板,

信号质量衡量模块,用于根据定义出的所述星座图模板衡量光相位调制信号质量是否符合要求。

8.如权利要求7所述的装置,其特征在于,

所述星座图模板定义模块进一步用于,根据所采用的相位调制格式确定星座图模板的形状和基准点位置;并定义星座图模板的大小,以及模板测试通过的准则,即允许落在模板外的信号点数量或者信号点比率;

所述信号质量衡量模块进一步用于,根据测得的信号点是否符合所述模板测试通过的准则,衡量光相位调制信号质量是否符合要求。

9.如权利要求8所述的装置,其特征在于,

所述星座图模板定义模块进一步用于,对于四相相移键控信号,确定星座图模板的形状为四个圆形模板,并按照如下方式确定所述基准点位置,即所述圆形模板的圆心的理想点位置:

所述四个圆形模板的圆心分别分布在其所处象限的角平分线上,且每个圆形模板的圆心到原点的距离相等,为(I基准2+Q基准2)1/2

其中,I基准和Q基准分别为所述圆心的同相分量和正交分量。

10.如权利要求9所述的装置,其特征在于,

所述星座图模板定义模块进一步用于,定义所述圆形模板的半径尺寸大小等于被测系统所允许的EVM的值,其中,EVM=(IERR2+QERR2)1/2

式中,IERR=I基准-I测量

QERR=Q基准-Q测量

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