[发明专利]无机纳米粒子的表面处理方法及应用

权利要求书

1.一种无机纳米粒子的表面处理方法，包括以下步骤：

首先将硅烷偶联剂、分散剂和无机纳米粒子按照重量比为1∶1∶4.9～5.1溶于石油醚或正己烷溶剂中反应，反应温度为60～90℃，然后对反应所得物进行蒸馏处理；所述的分散剂为正辛铵或甲基正辛胺。

2.根据权利要求1所述的无机纳米粒子的表面处理方法，其特征在于：所述的无机纳米粒子首先与硅烷偶联剂反应，在无机纳米粒子表面形成第一层包覆膜，然后再与分散剂反应形成第二层包覆膜。

3.根据权利要求1所述的无机纳米粒子的表面处理方法，其特征在于：所述的硅烷偶联剂为KH550。

4.根据权利要求1所述的无机纳米粒子的表面处理方法，其特征在于：所述的石油醚或正己烷溶剂的重量为硅烷偶联剂、分散剂和无机纳米粒子总重量的4.5～5.5倍。

5.根据权利要求1所述的无机纳米粒子的表面处理方法，其特征在于：所述的无机纳米粒子为纳米碳化钛或纳米碳化硅或纳米碳化锆或纳米氮化锆或纳米氮化钛或纳米氮化硅或纳米氮化铝或纳米氮化硼。

6.根据权利要求1所述的无机纳米粒子的表面处理方法，其特征在于：所述的反应时间为0.5～1.5小时。

7.根据权利要求1所述的无机纳米粒子的表面处理方法，其特征在于：所述的蒸馏处理后的反应所得物在130～150℃的温度下真空干燥。

8.根据权利要求7所述的无机纳米粒子的表面处理方法，其特征在于：所述的真空干燥时间为1～2小时。

9.一种权利要求1～8任一方法所处理过的无机纳米粒子在PET原料中的应用方法，包括以下步骤：将处理过的无机纳米粒子与PET原料按照重量比为1∶58～62投入高压粉碎机中处理即可。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于：所述的高压粉碎机的压力为150～230Mpa。