[发明专利]含4,5-乙撑基-2,7-咔唑的共轭聚合物及其制备方法与应用

权利要求书

1.含4，5-乙撑基-2，7-咔唑的共轭聚合物，其特征在于具有如下结构：

其中，R为C₁～C₁₈的烷基；Ar为烷基取代的共轭单元、烷氧基取代的共轭单元或烷基和烷氧基同时取代的共轭单元中的一种；0＜x≤1，0≤y＜1，x+y＝1；n＝3～1000。

2.根据权利要求1所述的含4，5-乙撑基-2，7-咔唑的共轭聚合物，其特征在于Ar为乙烯撑基，乙炔撑基，碳氢原子构成的芳香环，碳氮氢原子构成的芳香杂环，碳氮氧氢原子构成的芳香杂环，碳硫氢原子构成的芳香杂环，碳硅氢原子构成的芳香杂环，碳氮硫氢原子构成的芳香杂环，碳硅硫氢原子构成的芳香杂环中的一种或多种组合。

3.权利要求1所述的含4，5-乙撑基-2，7-咔唑的共轭聚合物的制备方法，其特征在于将4，5-乙撑基-2，7-咔唑单体与Ar单体进行共聚制备。

4.权利要求1所述含4，5-乙撑基-2，7-咔唑的共轭聚合物在制作聚合物发光二极管的发光层材料方面的应用。

5.权利要求1所述含4，5-乙撑基-2，7-咔唑的共轭聚合物在制作聚合物太阳电池中的应用。

6.根据权利要求5所述的应用，其特征在于应用于聚合物本体异质结太阳电池的给体相，与电子受体材料C₆₀或其衍生物、有机电子受体材料或无机纳米晶混合制成溶液，涂覆在ITO玻璃或缓冲层上，制备成薄膜，然后在薄膜上蒸镀金属制备成器件。