[发明专利]硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液有效

专利信息
申请号: 201010231307.4 申请日: 2010-07-20
公开(公告)号: CN101864247A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 李军;朱永伟;左敦稳;张彦;高平;蒋毕亮;杨涛;周睿洋;王军 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: C09G1/04 分类号: C09G1/04
代理公司: 南京天华专利代理有限责任公司 32218 代理人: 瞿网兰
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 材料 化学 机械抛光 磨料 抛光
【权利要求书】:

1.一种硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液,其特征在于它是由腐蚀剂,腐蚀抑制剂,表面活性剂,PH调节剂以及去离子水混合组成,其质量百分比分别为:

腐蚀剂            0.5%-40%;

腐蚀抑制剂        0.5%-20%;

表面活性剂        0.5%-15%;

PH调节剂         0.1%-10%;

去离子水          30%-95%。

2.根据权利要求1所说的无磨料抛光液,其特征在于所说的腐蚀剂为氢氟酸、磷酸、磷酸盐和焦磷酸盐的混合液或草酸、浓硫酸、硝酸、盐酸和醋酸中的一种或多种的混合液。

3.根据权利要求1所说的无磨料抛光液,其特征在于所说的腐蚀抑制剂为氯化铵、氟化铵和溴化铵中的一种或几种的组合。

4.根据权利要求1所说的无磨料抛光液,其特征在于所说的表面活性剂为聚氧乙烯烷基酚、脂肪酸聚氧乙烯脂、聚氧乙烯脂肪酸脂、聚氧乙烯酰胺、聚氧乙烯胺、烷基酚聚氧乙烯醚和高碳脂肪醇聚氧乙烯醚中的一种或几种的组合。

5.根据权利要求1所说的无磨料抛光液,其特征在于所说的PH调节剂包括:氢氧化钾、氢氧化钠、氨水、羟基胺、四甲基氢氧化铵、三乙醇胺、乙醇钠和乙酸钠中的一种或几种的组合。

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