[发明专利]钽化学机械抛光液的制备方法有效
| 申请号： | 201010231454.1 | 申请日： | 2010-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102010660A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 刘玉岭;王胜利;穆会来 | 申请（专利权）人： | 天津晶岭微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人： | 杨红 |
| 地址： | 300130*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种钽化学机械抛光液的制备方法，其特征是：制备步骤如下，
(1)清洗容器和管道：
采用18MΩ的超纯去离子水清洗反应器、管道和器具三遍；操作工人身体及手套、口罩及服装进行千级超净处理；
(2)将碱性pH调节剂用18MΩ超纯去离子水稀释后逐渐加入反应器内的抛光液中，采用负压涡流法进行气体搅拌，其加入量为直至抛光液达到pH值9-12，即可；
(3)将0.25-1％的FA/OI型表面活性剂逐渐加入处于负压涡流状态下的反应器内的抛光液中；
(4)在反应器内的抛光液中逐渐加入20-90％的粒径15-100nm的纳米级硅溶胶，浓度为40-50wt％，使其在负压下保持涡流状态进行气体搅拌直至硅溶胶制成SiO2水溶液的钽抛光液。
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