[发明专利]SED显示器表面传导电子发射源的制作方法有效
| 申请号： | 201010232479.3 | 申请日： | 2010-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101872706A | 公开（公告）日： | 2010-10-27 |
| 发明（设计）人： | 郭太良;张永爱;袁军林;翁卫祥;叶芸;贾贞 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | H01J9/02 | 分类号： | H01J9/02 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | sed 显示器 表面 传导 电子 发射 制作方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种SED显示器表面传导电子发射源的制作方法，其特征在于：
按以下步骤进行：
a．制造透明玻璃基板；
b．选用传导电子发射薄膜，所述薄膜可为有机高分子化合物和无机化合物，传导电子发射薄膜的厚度约为10-200nm，所述有机高分子化合物可采用聚吡咯、聚苯硫醚、聚酞菁类化合物、聚苯胺、聚噻吩、PPY-PVA，所述无机化合物可采用Au、Pt、Pb、C、Al、Ni、ZnO、SnO2、PbO、In2O3/SnO2；
c．将所述传导电子发射薄膜可采用磁控溅射法、电子束蒸发法、旋涂法、化学气相沉积法加工到透明玻璃基板上；
d．在所述传导电子发射薄膜两侧设置有与薄膜接触的器件电极，所述器件电极材料通常使用Pd，Pt，Ag，Cu，Cr，PdO，ITO，AZO等导电性材料，两电极的间隔为几微米至几十微米，电极宽度为几十微米至几百微米，厚度为几十纳米至几百纳米，所述器件电极可采用磁控溅射法、电子束蒸发法、化学气相沉积法、丝网印刷法加工到基板上；
e．在所述透明玻璃基板不具有薄膜的外侧设置照射光束源，所述光束源可为紫外光或激光，光束的波长范围为150-1000nm，光束照射薄膜的时间范围为5-30s。
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