[发明专利]一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法无效
申请号: | 201010232572.4 | 申请日: | 2010-07-21 |
公开(公告)号: | CN102336870A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 方国臻;王俊平;潘明飞;王硕 | 申请(专利权)人: | 天津科技大学 |
主分类号: | C08F222/14 | 分类号: | C08F222/14;C08F220/06;C08F2/44;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;B01J20/28 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300000 天津市经济技术开发区*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 富集 痕量 苯磺隆 分子 印迹 聚合物 制备 方法 | ||
1.一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:
1)在N,N-二甲基甲酰胺和甲苯的混合溶液中加入苯磺隆,甲基丙烯酸和乙二醇二甲基丙烯酸酯,搅拌反应30min,再加入偶氮二异丁腈,超声5min,通氮气10min,在60℃下孵化24h;
2)将上述的聚合产物研碎,过200目筛。采用加速溶剂萃取技术,以乙腈为溶剂萃取。
2.根据权利要求1所述的一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述N,N-二甲基甲酰胺和甲苯的混合溶液中N,N-二甲基甲酰胺和甲苯的体积比为2∶1。
3.根据权利要求1所述的一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述的苯磺隆、甲基丙烯酸和乙二醇二甲基丙烯酸酯的摩尔比例为1∶3∶7。
4.根据权利要求1所述的一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述的偶氮二异丁腈加入量为60mg。
5.根据权利要求1所述的一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述的加速溶剂萃取条件为加热时间为5min,温度为80℃,静态萃取时间8min,循环次数为5次,吹扫时间100s,压力1500psi,连续萃取两次。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津科技大学,未经天津科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010232572.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:新型无尘粉笔及其制作方法
- 下一篇:一种亚胺硫磷分子印迹聚合物的制备方法