[发明专利]一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法无效

专利信息
申请号: 201010232572.4 申请日: 2010-07-21
公开(公告)号: CN102336870A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 方国臻;王俊平;潘明飞;王硕 申请(专利权)人: 天津科技大学
主分类号: C08F222/14 分类号: C08F222/14;C08F220/06;C08F2/44;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;B01J20/28
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300000 天津市经济技术开发区*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 富集 痕量 苯磺隆 分子 印迹 聚合物 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:

1)在N,N-二甲基甲酰胺和甲苯的混合溶液中加入苯磺隆,甲基丙烯酸和乙二醇二甲基丙烯酸酯,搅拌反应30min,再加入偶氮二异丁腈,超声5min,通氮气10min,在60℃下孵化24h;

2)将上述的聚合产物研碎,过200目筛。采用加速溶剂萃取技术,以乙腈为溶剂萃取。

2.根据权利要求1所述的一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述N,N-二甲基甲酰胺和甲苯的混合溶液中N,N-二甲基甲酰胺和甲苯的体积比为2∶1。

3.根据权利要求1所述的一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述的苯磺隆、甲基丙烯酸和乙二醇二甲基丙烯酸酯的摩尔比例为1∶3∶7。

4.根据权利要求1所述的一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述的偶氮二异丁腈加入量为60mg。

5.根据权利要求1所述的一种富集痕量苯磺隆的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述的加速溶剂萃取条件为加热时间为5min,温度为80℃,静态萃取时间8min,循环次数为5次,吹扫时间100s,压力1500psi,连续萃取两次。 

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