[发明专利]成像装置和成像方法有效
申请号: | 201010232975.9 | 申请日: | 2010-07-16 |
公开(公告)号: | CN101959020A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
发明(设计)人: | 潘毅 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H04N5/232 | 分类号: | H04N5/232;G03B13/36;G02B7/36;G03B7/08 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 刘光明;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 装置 方法 | ||
1.一种成像装置,包括:
成像单元,所述成像单元被配置为通过成像元件对分别经由基准光学系统和调整目标光学系统而形成的对象图像进行光电转换,并输出用于左眼和右眼的视点图像;
视差量计算单元,所述视差量计算单元被配置为计算所述基准光学系统与所述调整目标光学系统之间的视差量;
设定单元,所述设定单元被配置为设定与由所述基准光学系统输出的第一视点图像相对应的成像条件评估区的坐标;
计算单元,所述计算单元被配置为基于已由所述设定单元设定的与由所述基准光学系统输出的所述第一视点图像相对应的所述成像条件评估区的坐标和基于由所述视差量计算单元计算的所述视差量,计算与由所述调整目标光学系统输出的第二视点图像相对应的成像条件评估区的坐标;以及
控制单元,所述控制单元被配置为基于在由所述设定单元设定的所述坐标处的、与来自所述基准光学系统的视点图像相对应的所述成像条件评估区中的图像数据,和基于在由所述计算单元计算的所述坐标处的、与来自所述调整目标光学系统的视点图像相对应的所述成像条件评估区中的图像数据,来调整所述基准光学系统和所述调整目标光学系统的成像条件,并控制所述成像单元在已调整成像条件下输出所述视点图像。
2.如权利要求1所述的成像装置,其中
所述成像条件评估区包括对焦评估值计算区。
3.如权利要求2所述的成像装置,还包括:
基准光学系统对焦控制单元,在改变所述基准光学系统的焦点位置时,所述基准光学系统对焦控制单元被配置为在由所述基准光学系统输出的所述第一视点图像中检测位于由所述设定单元设定的坐标处的所述对焦评估值计算区中的对比度变成局部最大的对焦位置,并将所述基准光学系统的焦点位置移动至所检测的对焦位置;以及
调整目标光学系统对焦控制单元,在改变所述调整目标光学系统的焦点位置时,所述调整目标光学系统对焦控制单元被配置为在由所述调整目标光学系统输出的所述第二视点图像中检测位于由所述计算单元计算的坐标处的所述对焦评估值计算区中的对比度变成局部最大的对焦位置,并使所述调整目标光学系统的焦点位置移动至所检测的对焦位置。
4.如权利要求1所述的成像装置,其中
所述成像条件评估区包括对象亮度计算区。
5.如权利要求4所述的成像装置,还包括:
基准光学系统曝光控制单元,所述基准光学系统曝光控制单元被配置为控制所述基准光学系统的曝光,以便在由所述基准光学系统输出的所述第一视点图像中,从位于由所述设定单元设定的坐标处的所述对象亮度计算区所检测的对象亮度变得适当;以及
调整目标光学系统曝光控制单元,所述调整目标光学系统曝光控制单元被配置为控制所述调整目标光学系统的曝光,以便在由所述调整目标光学系统输出的所述第二视点图像中,从位于由所述计算单元计算的坐标处的所述对象亮度计算区所检测的对象亮度变得适当。
6.如权利要求4所述的成像装置,还包括:
基准光学系统曝光控制单元,所述基准光学系统曝光控制单元被配置为控制所述基准光学系统的曝光,以便在由所述基准光学系统输出的所述第一视点图像中,从包括多个划分区的所述对象亮度计算区的各个划分区所检测的对象亮度的平均加权变得适当,所述多个划分区利用由所述设定单元设定的坐标为中心被加权;以及
调整目标光学系统曝光控制单元,所述调整目标光学系统曝光控制单元被配置为控制所述调整目标光学系统的曝光,以便在由所述调整目标光学系统输出的所述第二视点图像中,从包括多个划分区的所述对象亮度计算区的各个划分区所检测的对象亮度的平均加权变得适当,所述多个划分区利用由所述计算单元计算的坐标为中心被加权。
7.如权利要求1所述的成像装置,其中
所述成像条件评估区包括调光用亮度计算区。
8.如权利要求1至7中的任一项所述的成像装置,其中
所述视差量计算单元基于连接特征点和对应点的视差矢量来计算所述基准光学系统与所述调整目标光学系统之间的所述视差量,所述特征点是从坐标已由所述设定单元设定且对应于所述基准光学系统的所述成像条件评估区所检测的,且所述对应点在来自所述调整目标光学系统的视点图像中,与所述特征点相对应。
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