[发明专利]多头对准系统中的对准头的位置校准

权利要求书

1.一种用一个或更多个主对准头校准一个或更多个辅对准头的方法，其中

所述主对准头测量对准标记；

至少一个辅对准头测量相同的对准标记；和

所述辅对准头相对于所述主对准头的偏移量由在所述对准标记上实施的测量获得。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述主对准头测量与每一个所述辅对准头共同的至少一个对准标记。

3.根据权利要求1所述的方法，其中通过所述主对准头和每一个所述辅对准头两者测量所有所述对准标记。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中通过所述多个对准头并行地实施所述多个测量。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述测量步骤包括：对于每个测量头，使所述对准标记处于焦点处。

6.一种晶片对准的方法，其被执行作为光刻过程的准备步骤，其中所述晶片通过对准系统进行测量，所述对准系统包括：包括主对准头的主对准系统和包括一个或更多个辅对准头的辅对准系统；所述方法包括步骤：

执行主基线校准以使所述主对准头相对于参照物体对准；

执行辅基线校准以使所述辅对准头相对于所述主对准头对准；和

相对于所述主对准头校准一个或更多个辅对准头，其中：

所述主对准头测量对准标记；

至少一个辅对准头测量相同的对准标记；和

所述辅对准头相对于所述主对准头的偏移量由在所述对准标记上实施的测量获得。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述主对准头测量与每一个所述辅对准头共同的至少一个对准标记。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其中通过所述多个对准头并行地实施所述多个测量。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述测量步骤包括：对于每个测量头，使所述对准标记处于焦点处。

10.一种校准设备，包括：

对准系统，包括：

主对准系统，包括主对准头和用于探测对准标记的传感器；

辅对准系统，包括一个或更多个辅对准头，每一个辅对准头包括

用于探测对准标记的传感器；

机构，用于在所述主对准头测量对准标记所在的第一位置和辅对准头测量相同的对准标记所在的第二位置之间移动所述对准系统，

编码器，用于测量所述对准系统的位置；和

处理器，用于接收来自对准系统传感器的测量值和来自用于移动所述对准系统的所述机构的位置信息；和根据所述测量值计算所述辅对准头相对于所述主对准头的偏移量。

11.根据权利要求10所述的校准设备，其中所述机构适于移动所述主对准头以测量与每一个所述辅对准头共同的至少一个对准标记。

12.一种光刻设备，包括：

校准设备，包括：

对准系统，包括：

主对准系统，包括主对准头和用于探测对准标记的传感器；

辅对准系统，包括一个或更多个辅对准头，每一个辅对准头包括用于探测对准标记的传感器；

机构，用于：

在用以执行主基线校准以使所述主对准头相对于参考物体对准的测量位置和用以执行辅基线校准以使所述辅对准头相对于所述主对准头对准的测量位置之间移动所述对准系统；以及

在所述主对准头测量对准标记所在的第一位置和辅对准头测量相同的对准标记所在的第二位置之间移动所述对准系统；

编码器，用于测量所述对准系统的位置；和

处理器，用于接收来自对准系统传感器的测量值和来自用于移动所述对准系统的所述机构的位置信息；和根据所述测量值计算所述辅对准头相对于所述主对准头的偏移量。

13.根据权利要求12所述的光刻设备，其中所述机构适于移动所述主对准头以测量与每一个所述辅对准头共同的至少一个对准标记。

14.根据权利要求12或13所述的光刻设备，其中，通过所述多个对准头实施所述多个测量。

15.根据权利要求14所述的光刻设备，还包括用于使所述对准标记或每个对准标记处于焦点的机构。