[发明专利]抗磨与润滑一体化多元掺杂碳基纳米复合薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 201010234182.0 | 申请日： | 2010-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN102337497A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 王立平;周升国;薛群基 | 申请（专利权）人： | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人： | 方晓佳 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 润滑 一体化 多元 掺杂 纳米 复合 薄膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种抗磨与润滑一体化多元掺杂碳基纳米复合薄膜的制备方法，其特征在于该方法步骤为：
A、等离子溅射清洗基材，将轴承钢基材置于磁控溅射气相沉积系统中，进行氩等离子体溅射清洗，氩气气体流量为90～100sccm，偏压为-800～-1000V，处理时间为20～30min；
B、磁控溅射沉积Ti或Si粘接层，金属Ti靶或Si靶为阴极，工作气体为氩气，控制电源功率为500～700W，偏压为-500V，处理时间为20～30min；
C、磁控溅射沉积多元掺杂碳基纳米复合薄膜：沉积过程中，真空室的本底真空为5×10-4Pa，放电气压为0.6Pa，磁控靶采用三靶共溅射系统，其中高纯石墨靶放置在中间，两边分别放置强碳金属靶(Ti、W、Mo或Si)和弱碳金属靶(Al)，石墨靶电流为控制为1～1.2A，金属靶电流控制为0.3～0.5A。底材施加负偏压为-300～-500V，沉积时间120～180min；自然冷却，在轴承钢工件表面获得多元掺杂碳基纳米复合薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院兰州化学物理研究所，未经中国科学院兰州化学物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010234182.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
