[发明专利]镀膜装置及镀膜方法

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜装置及镀膜方法，尤其是关于运转率高的镀膜装置及镀膜方法。

背景技术

作为制造有机EL器件等的主要的方法有真空蒸镀法。在真空蒸镀工序中，加热蒸发(升华)放入坩埚的蒸镀材料，从喷嘴喷出的蒸镀材料蒸镀于有机EL器件的表示基板等上。在这种蒸镀工序中，为了稳定地得到蒸发(升华)，例如在向所述表示基板不进行蒸镀的等待时间内，也需要经常连续地进行加热蒸发(升华)。但是，如果长时间连续地加热蒸发(升华)，在喷嘴或其周边有蒸镀材料析出，不能稳定地蒸镀，在最坏的情况下，部分喷嘴被堵塞，不能进行均匀的镀膜。

为此，进行一定时间的蒸镀后，破坏真空，清理喷嘴及其周边，再获得真空后进行运转。以往没有考虑过在真空室内进行清理。作为以往的具有喷嘴的蒸发源，有下述的专利文献1。

专利文献1：日本特开2004-095275号公报

但是，一旦破坏真空室的真空，再获得所定真空度需要时间。例如，为降低有机EL器件的制造成本，需要提高运转率。

发明内容

因此，本发明的目的在于，提供减少破坏所述真空室的真空而清理所述喷嘴及周边的频度，运转率高或可以均匀地镀膜的镀膜装置及镀膜方法。

为了达到上述目的，本发明的镀膜装置具有真空蒸镀室，该真空蒸镀室具备使蒸发源移动的蒸发源移动机构，该蒸发源使蒸发源内部所具有的蒸发材料蒸发(升华)，从所述蒸发源的多个喷嘴喷出而蒸镀到基板上，第一特征为，所述真空蒸镀室具有喷嘴清理机构，该喷嘴清理机构具备去除在所述喷嘴或喷嘴附近析出的析出蒸发材料的清理部。

而且，为了达到上述目的，在第一特征的基础上，第二特征为，所述真空蒸镀室具有使所述蒸发源或所述清理部中的至少一方移动的移动机构。

并且，为了达到上述目的，在第二特征的基础上，第三特征为，所述移动机构是使所述清理部向所述喷嘴移动的清理部移动机构。

另外，为了达到上述目的，在第二特征的基础上，第四特征为，所述移动机构是使喷嘴移动到所述清理部的第二蒸发源移动机构。

并且，为了达到上述目的，在第一至第四任意特征的基础上，第五特征为，所述清理部具有去除所述析出蒸发材料的析出蒸发材料去除体。

而且，为了达到上述目的，在第五特征的基础上，第六特征为，所述析出蒸发材料去除体是在内部具有加热器，且使所述析出蒸发材料蒸发(升华)而去除的加热体。

并且，为了达到上述目的，在第六特征的基础上，第七特征为，所述加热体为加热块部件。

另外，为了达到上述目的，在第六特征的基础上，第八特征为，所述加热体具有块部件和一体设置或固定设置于所述块部件上、且可插入所述喷嘴的所述喷嘴内去除部，所述喷嘴清理机构具有将所述喷嘴内去除部插入所述喷嘴的喷嘴插入驱动部。

并且，为了达到上述目的，在第六特征的基础上，第九特征为，所述加热体具有可插入所述喷嘴的喷嘴内去除部，所述喷嘴清理机构具有将所述喷嘴内去除部插入所述喷嘴的喷嘴插入驱动部。

另外，为了达到上述目的，在第八或第九特征的基础上，第十特征为，所述清理部移动机构是使所述喷嘴插入驱动部与所述清理部一体移动的机构，所述喷嘴插入驱动部内装于内部为空气环境的箱，所述箱连接于内部为中空的被真空密封的联杆机构的一端，所述联杆机构的另一端向空气环境开放，所述喷嘴插入驱动部通过设于所述箱上的真空密封部驱动所述析出蒸发材料去除体。

而且，为了达到上述目的，在第六至第十任意特征的基础上，第十一特征为，所述析出蒸发材料去除体具有与分布于所述蒸发源的长度方向的喷嘴的范围大致相同的长度，具有为使所述析出蒸发材料去除体和所述蒸发源与所述喷嘴正对，而使所述析出蒸发材料去除体和所述蒸发源中的任一方移动的正对移动机构。

另外，为了达到上述目的，在第八或第九特征的基础上，第十二特征为，在一端向空气开放且另一端具有真空密封部的空气环境空间内部，设置所述喷嘴插入驱动部的至少一部分，所述喷嘴插入驱动部通过所述真空密封部驱动所述析出蒸发材料去除体。

并且，为了达到上述目的，在第四特征的基础上，第十三特征为，所述真空蒸镀室具有向多个所述基板蒸镀的多个蒸镀处，所述第二蒸发源驱动机构是使蒸发源在所述多个蒸镀处之间移动的机构。

而且，为了达到上述目的，在第六特征的基础上，第十四特征为，所述清理部具有冷却收集机构，该冷却收集机构设置在所述析出蒸发材料去除体的周边，防止所述析出蒸发材料再次蒸发(升华)，在所述喷嘴或喷嘴附近再析出。