[发明专利]光电式气体感测装置及其制造方法无效
申请号: | 201010235443.0 | 申请日: | 2010-07-21 |
公开(公告)号: | CN102338737A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 李宗昇 | 申请(专利权)人: | 友丽系统制造股份有限公司;深圳市宝富利科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/17 | 分类号: | G01N21/17 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电 气体 装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,步骤包括:
提供一半腔体模具;
以该半腔体模具成形两半腔体,且该两半腔体各具有两半对流孔以及一半椭球状的内表面;
于该两半腔体的内表面各成形一反射层;
将该两半腔体接合成一腔体,该腔体内表面形成椭球状,该两半腔体的半对流孔相互接合形成两对流孔;
提供一发射源组件,将该发射源组件设置于该腔体内表面的焦点处;以及
提供一接收端组件,将该接收端组件设置于该腔体内表面的另一焦点处。
2.如权利要求1所述的光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,该两半腔体的成形方式为射出成形或灌铸成形。
3.如权利要求2所述的光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,该两半腔体的成形方式为射出成形时,于该两半腔体的内表面涂布形成该反射层。
4.如权利要求2所述的光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,该两半腔体的成形方式为灌铸成形时,将该两半腔体内表面进行抛光处理以形成该反射层,或者将该两半腔体内表面进行镀金处理以形成该反射层。
5.如权利要求1所述的光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,该两半腔体各形成有至少一扩散孔。
6.如权利要求1所述的光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,该两半腔体各形成有至少一接榫以及至少一接合槽。
7.如权利要求1所述的光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,步骤进一步包括:
提供一微调组件,将该微调组件可移动地装设于该两半腔体的至少其中之一;以及
以该微调组件调整该两半腔体的间距,使该发射源组件发出的能量经该反射层反射到该接收端组件后,于该接收端组件上形成一聚焦面。
8.如权利要求7所述的光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,以该微调组件调整该两半腔体的间距,使该聚焦面成形为椭圆形或哑铃形。
9.如权利要求1所述的光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,步骤进一步包括:
提供一第一电路板,将该发射源组件电性连接于该第一电路板;
连接该第一电路板与该两半腔体的一端缘;
提供一第二电路板,将该接收端组件电性连接于该第二电路板,且于该第二电路板成形一放大电路;
连接该第二电路板与该两半腔体的另一端缘;以及
提供一第三电路板,将该第三电路板设置于该两半腔体的下方,将该第一电路板与该第二电路板分别连接于该第三电路板的两侧。
10.如权利要求9所述的光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,该第一电路板与该两半腔体一端缘以及该第二电路板与该两半腔体另一端缘进一步装设一微调组件,以该微调组件使该两半腔体产生相对的位移。
11.如权利要求9所述的光电式气体感测装置制造方法,其特征在于,步骤进一步包括:提供一显示器,将该显示器设置于该两半腔体的上方,且该显示器电性连接该第三电路板。
12.一种光电式气体感测装置,其特征在于,包括:
一腔体,其由两相同结构的半腔体接合而成,该腔体具有两对流孔,该腔体内部形成一容置空间,该容置空间与该两对流孔相连通,该腔体内表面为椭球状;
一反射层,其设置于该腔体内表面;
一微调组件,其设置于该两半腔体的至少其中之一,该微调组件使该两半腔体形成间隔地设置;以及
一发射源组件与一接收端组件,其分别设置于该椭球状腔体内表面的左右两焦点,该发射源组件发出的能量经该反射层反射到该接收端组件,并于该接收端组件上形成一聚焦面。
13.如权利要求12所述的光电式气体感测装置,其特征在于,该聚焦面为椭圆形或哑铃形。
14.如权利要求12所述的光电式气体感测装置,其特征在于,该两半腔体各具有一扩散孔,该容置空间与该两扩散孔相连通。
15.如权利要求12所述的光电式气体感测装置,其特征在于,进一步具有一电路板组件,该电路板组件设置于该腔体的两侧以及下方,该电路板组件电性连接该发射源组件与该接收端组件;以及一显示器,其设置于该腔体的上方,该显示器电性连接该电路板组件;其中,该电路板组件具有一第一电路板、一第二电路板以及一第三电路板,该腔体两侧分别连接于该第一电路板与该第二电路板,该第三电路板设置于该腔体下方,该第一电路板具有一调整孔,该微调组件穿过该调整孔且将该第一电路板固定于该腔体,该微调组件于该调整孔内移动使该两半腔体形成间隔地设置。
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