[发明专利]一种高增透滤波片及其加工方法

权利要求书

1.一种高增透滤波片，其包括基片，其特征在于：所述基片为滤波片，在所述滤波片的两侧面镀有增透膜层。

2.根据权利要求1所述的一种高增透滤波片，其特征在于：所述增透膜层为SiO₂增透膜层。

3.一种高增透滤波片的加工方法，其特征在于：其包含以下步骤：

（1）制备SiO₂增透膜溶液：在常温下分别制备两份溶液，一份加入硅酸酯和稀释剂，另一份顺次加入去离子水、水解催化剂和稀释剂，然后将两份溶液分别搅拌10min～15min后混合，再搅拌5h～10h，室温陈化3天～15天后，得到所述SiO₂增透膜溶液；所述硅酸酯与稀释剂的体积比为1：（10～20），硅酸酯和去离子水的体积比为1：（0.1～0.3），所述硅酸酯与水解催化剂的体积比为1：（0.15～0.8）；

（2）清洗滤波片，分别用去离子水、无水乙醇超声清洗所述滤波片，然后放入干燥器中烘干备用；

（3）镀膜：将所述SiO₂增透膜溶液镀于所述已清洗过的滤波片两侧面，然后将已经镀好膜的滤波片在50℃～80℃温度下烘干。

4.根据权利要求3所述的一种高增透滤波片的加工方法，其特征在于：在所述镀膜前将所述SiO₂增透膜溶液在超声波振荡器内超声振荡5min～15min。

5.根据权利要求3或4所述的一种高增透滤波片的加工方法，其特征在于：所述镀膜采用垂直提拉法，提拉速度为300mm/min～700mm/min。

6.根据权利要求4所述的一种高增透滤波片的加工方法，其特征在于：所述滤波片为有色玻璃滤波片、金属薄膜滤波片、长波通滤波片、短波通滤波片、宽带通滤波片、红外截止型滤波片、紫外截止型滤波片中的任一种。

7.根据权利要求4所述的一种高增透滤波片的加工方法，其特征在于：所述硅酸酯为正硅酸乙酯。

8.根据权利要求4所述的一种高增透滤波片的加工方法，其特征在于：所述稀释剂为无水乙醇、无水甲醇、无水异丙醇中的任一种。

9.根据权利要求4所述的一种高增透滤波片的加工方法，其特征在于：所述水解催化剂为氨水。

10.根据权利要求5所述的一种高增透滤波片的加工方法，其特征在于：所述垂直提拉法是将滤波片悬挂固定于吊具，所述吊具连接升降机构，镀镆时，所述升降机构通过吊具带动滤波片缓慢下行，将滤波片浸渍于装有SiO₂增透膜溶液的溶液槽内10秒钟，然后按300mm/min～700mm/min的提拉速度向上拉升，SiO₂增透膜溶液就均匀地粘附在滤波片表面。