[发明专利]纳米结构功能涂层和器件有效

专利信息
申请号: 201010236517.2 申请日: 2010-07-15
公开(公告)号: CN101958347A 公开(公告)日: 2011-01-26
发明(设计)人: L·察卡拉科斯;E·G·巴特菲尔德;A·M·斯里瓦斯塔瓦;B·A·科尔瓦尔 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/052
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 曲卫涛;徐予红
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 纳米 结构 功能 涂层 器件
【权利要求书】:

1.一种物品,包括:

设置在衬底上的纳米结构功能涂层,其中所述涂层的特征在于抗反射性质和向下转换性质。

2.如权利要求1所述的物品,其中所述纳米结构功能涂层包括包含纳米结构的阵列的抗反射层。

3.如权利要求2所述的物品,其中所述抗反射层具有一致或渐变的折射率。

4.如权利要求1所述的物品,其中所述纳米结构功能涂层包括向下转换材料。

5.如权利要求4所述的物品,其中所述纳米结构功能涂层包括抗反射层,并且所述向下转换材料的纳米结构嵌入在所述抗反射层内。

6.如权利要求4所述的物品,其中所述纳米结构功能涂层包括抗反射层,并且所述向下转换材料的纳米结构设置在所述抗反射层的下方。

7.如权利要求4所述的物品,其中所述抗反射层中的所述纳米结构彼此隔开以便在所述纳米结构的阵列中形成空隙,并且向下转换纳米结构位于所述纳米结构的阵列的基本上所有空隙中。

8.如权利要求4所述的物品,其中所述向下转换材料以晶体形式存在。

9.如权利要求8所述的物品,其中所述向下转换材料包含纳米结构的阵列,每个纳米结构具有基本一致或渐变的横截面积。

10.一种光电器件,包括:

衬底;

设置在所述衬底上的多层结构;以及

设置在所述器件的电磁辐射接收表面上的纳米结构功能涂层,其中所述纳米结构功能涂层的特征在于抗反射性质和向下转换性质。

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