[发明专利]镀膜件及其制作方法无效
| 申请号： | 201010239092.0 | 申请日： | 2010-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN102337507A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;张成 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/58;C23C14/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制作方法 | ||
1.一种镀膜件，其包括一基体及形成于基体上的一膜层，其特征在于：该膜层为一磁控溅射膜层，该膜层形成有若干微孔，该若干微孔中填充有封孔粒子。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述封孔粒子由将所述膜层浸渍于含有NaCOOCH3、HCOOCH3、NH3 H2O、NaSO4、HNO3及NaTiF4的封孔液中，而后干燥的方式形成。
3.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该膜层为一Al-Ti-N膜。
4.一种镀膜件的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
通过磁控溅射在基体表面形成一膜层；
使用一封孔液对所述膜层浸渍封孔液中进行封孔处理。
5.如权利要求4所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述封孔液中含有40-60g/L的NaCOOCH3，10-20g/L的HCOOCH3，1-2g/L的NH3 H2O，2-8g/L的NaSO4，1-5g/L的HNO3，以及2-6g/L的NaTiF4。
6.如权利要求4或5所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述的封孔液的pH值为3-7。
7.如权利要求4所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述封孔处理的时间为5-15s。
8.如权利要求4所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述封孔液的温度为20-30℃。
9.如权利要求4所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述膜层为一Al-Ti-N膜。
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