[发明专利]涂层、具有该涂层的被覆件及该被覆件的制备方法无效
| 申请号： | 201010240074.4 | 申请日： | 2010-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN102345092A | 公开（公告）日： | 2012-02-08 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;马闯 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
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| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 涂层 具有 被覆 制备 方法 | ||
1.一种涂层，包括一沉积层，其特征在于：该沉积层为一NiTiCN层。
2.如权利要求1所述的涂层，其特征在于：该沉积层的厚度为0.5～3μm。
3.如权利要求1所述的涂层，其特征在于：该涂层还包括一形成于该沉积层上的颜色层。
4.一种被覆件，包括一基体、形成于该基体的一结合层及形成于该结合层上的一涂层，该涂层包括一沉积层，其特征在于：该结合层为一NiTi层，该沉积层为一NiTiCN层。
5.如权利要求4所述的被覆件，其特征在于：该结合层的厚度为0.05～0.5μm。
6.如权利要求5所述的被覆件，其特征在于：该基体为高速钢、硬质合金及不锈钢中的一种。
7.一种被覆件的制备方法，包括以下步骤：
提供一基体；
将基体放入一镀膜机的真空室内，使用镍钛合金靶，抽真空至8.0×10-3Pa，通入流量为100～300sccm的氩气，调节偏压至-100～-300V，通过磁控溅射镀膜方法在该基体上形成一结合层，该结合层为一NiTi层；
通入流量为10～200sccm的氮气及流量为10～100sccm乙炔气体，调节真空室温度至100～200，于该结合层上形成一沉积层，该沉积层为一NiTiCN层。
8.如权利要求7所述的被覆件的制备方法，其特征在于：该结合层的沉积时间为20～60min。
9.如权利要求7所述的被覆件的制备方法，其特征在于：该镍钛合金靶中镍的质量百分含量为20～80％。
10.如权利要求7所述的被覆件的制备方法，其特征在于：该沉积层的沉积时间为90～200min。
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